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중공형 카본 나노스피어(nanosphere) 및 중공형 금속 산화물을 포함하는 나노복합체
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제1항에 있어서,상기 중공형 카본 나노스피어는 흑연질 탄소(graphitic carbon)인 나노복합체
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제1항에 있어서,상기 중공형 금속 산화물은 Fe2O3 SnO2, Co3O4, MoO3, WO3, NbO, TaO 및 NiO로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나인 나노복합체
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금속 입자;상기 금속 입자를 둘러싸는 흑연질 탄소; 및상기 흑연질 탄소를 둘러싸는 비정질 탄소를 포함하는 나노복합체
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제4항에 있어서,상기 금속 입자는 Fe, Sn, Co, Mo, W, Nb, Ta 및 Ni로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나인 나노복합체
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6
중공형 카본 나노스피어, 금속 입자 및 비정질 탄소를 포함하는 나노복합체
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제6항에 있어서,상기 비정질 탄소는 중공형 카본 나노스피어 및 금속 입자를 둘러싸면서 배치되는 나노복합체
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중공형 카본 나노스피어(nanosphere) 및 전이금속디칼코게나이드(transition metal dichalcogenide)를 포함하는 나노복합체
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제8항에 있어서,상기 전이금속디칼코게나이드는 FeSe2, FeS2, SnSe2, SnS2, CoSe2, CoS2,, MoS2, MoSe2, WS2, WSe2, NbS2, NbSe2, TaS2, TaSe2, NiS2, 및 NiSe2로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 나노복합체
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10
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 나노복합체를 포함하는 전극 조성물
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금속, 탄화 가능한 유기물, 열분해성 고분자 입자, 및 용매를 혼합하는 단계;상기 혼합물을 공기 중에서 제1 열처리하는 단계;H2/Ar 혼합 가스 하에서 제2 열처리하는 단계; 및공기 중에서 제3 열처리하는 단계를 포함하는 나노복합체의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 제1 열처리하는 단계는 100 ℃ 내지 200 ℃의 온도에서 수행되는 나노복합체의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 제2 열처리하는 단계는 5 % 내지 10 %의 H2/Ar 혼합 가스 하에서 2 ℃/분 내지 8 ℃/분의 가열 속도로 600 ℃ 내지 800 ℃에서 수행되는 나노복합체의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 제3 열처리하는 단계는 2 ℃/분 내지 8 ℃/분의 가열 속도로 200 ℃ 내지 400 ℃에서 수행되는 나노복합체의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 제1 열처리하는 단계, 제2 열처리하는 단계, 및 제3 열처리하는 단계는 연속적으로 이루어지는 나노복합체의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 제3 열처리하는 단계 이후, 셀렌화 공정 또는 황화 공정을 더 포함하는 나노복합체의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 탄화 가능한 유기물은 sucrose, dextrin, citric acid, ethylen glycol, poly ethylen glycol, PVP( Polyvinylpyrrolidone), PEDOT(Polyethylenedioxythiophene), PAN(Polyacrylonitrile), PAA(polyacrylic acid), PVA(polyvinylalcohol), PMMA(polymethyl methacrylate), PVDF( polyvinylidene fluoride), PVac(polyvinylacetate), PS(polystyrene), PVC(polyvinylchloride), PEI(polyetherimide), PBI(polybenzimidasol), PEO(polyethyleneoxide), PCL(poly e-caprolactone), PA-6(polyamide-6), PTT(polytrimethylenetetraphthalate), PDLA(poly D,L-lactic acid), polycarbonate, polydioxanone, polyglicolide 및 dextran으로 이루어진 군에서선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 나노복합체의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 열분해성 고분자 입자는 폴리스티렌, 폴리비닐아세테이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐알콜, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리에테르이미드, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리우레탄, 폴리비닐클로라이드로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 나노복합체의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 용매는 DMF(N, N-Dimethylformamide) water, ethanol, methanol, isopropanol, DCM(Dichloromethane), MC(methylene chloride), acetic acid, acetonitrile, DMA(N,N-dimethylacetamide), m-cresol, toluene, tetrahydrofuran, formic acid, pyridine, aceton, acetonitrile, chloroform, ethyl acetate 및 trifluoroethanol로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 나노복합체의 제조 방법
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