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원수 유입 단계(S1), 생물학적 반응 단계(S2), 및 배출 단계(S4)를 포함하는 일련의 단계들이 하나의 단일 반응조 내에서 수행되는 연속회분식반응조(SBR, Sequencing Batch Reactor)를 이용한 질소 제거 방법에 있어서,상기 생물학적 반응 단계(S2)는, 탈질 및 암모니아성 질소를 산화시키는 무산소 단계(S-1); 및 암모니아성 질소를 아질산성 질소로 산화시키는 호기 단계(S-2)를 포함하되,상기 호기 단계(S-2)에서도 원수가 공급되는 것을 특징으로 하는 연속회분식반응조를 이용한 질소 제거 방법
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제1항에 있어서,상기 원수 유입 단계(S1)와 생물학적 반응 단계(S2)를 하나의 주기로 하여 1회 이상 반복된 후, 배출 단계(S4)가 수행되는 것을 특징으로 하는 연속회분식반응조를 이용한 질소 제거 방법
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제2항에 있어서,상기 원수 유입 단계(S1)와 생물학적 반응 단계(S2)로 이루어진 하나의 주기에서 공급되는 원수의 공급비율은, 원수 유입 단계(S1) : 생물학적 반응 단계(S2)가 1:9 내지 9:1의 부피비로 공급되는 것을 특징으로 하는 연속회분식반응조를 이용한 질소 제거 방법
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제3항에 있어서,상기 원수 유입 단계(S1)와 생물학적 반응 단계(S2)로 이루어진 하나의 주기에서 공급되는 원수의 공급비율은, 원수 유입 단계(S1) : 생물학적 반응 단계(S2)가 5:5 내지 7:3의 부피비로 공급되는 것을 특징으로 하는 연속회분식반응조를 이용한 질소 제거 방법
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제2항에 있어서,상기 호기 단계(S-2)에서 공급되는 원수는 1회 내지 9회 분할되어 공급되는 것을 특징으로 하는 연속회분식반응조를 이용한 질소 제거 방법
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제5항에 있어서,상기 호기 단계(S-2)에서 공급되는 원수는 3회 내지 5회 분할되어 공급되는 것을 특징으로 하는 연속회분식반응조를 이용한 질소 제거 방법
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제1항에 있어서,상기 탈질 및 암모니아성 질소를 산화시키는 무산소 단계(S-1)는 아질산성 질소가 모두 소모될 때까지 수행되는 것을 특징으로 하는 연속회분식반응조를 이용한 질소 제거 방법
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제1항에 있어서,상기 암모니아성 질소를 아질산성 질소로 산화시키는 호기 단계(S-2)는 호기 단계(S-2)에서 공급된 원수에 포함된 암모니아성 질소의 45~55%가 산화될 때까지 수행되는 것을 특징으로 하는 연속회분식반응조를 이용한 질소 제거 방법
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제2항에 있어서,상기 원수 유입 단계(S1)와 생물학적 반응 단계(S2)로 이루어진 하나의 주기에서 공급되는 원수의 공급비율은, 원수 유입 단계(S1) : 생물학적 반응 단계(S2)가 5:5 내지 7:3의 부피비로 공급되고,상기 호기 단계(S-2)에서 공급되는 원수는 3회 내지 5회 분할되어 공급되는 것을 특징으로 하는 연속회분식반응조를 이용한 질소 제거 방법
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제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,상기 생물학적 반응 단계(S2)와 배출 단계(S4) 사이에 침전 단계(S3)가 더 수행되는 것을 특징으로 하는 연속회분식반응조를 이용한 질소 제거 방법
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