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리튬 금속층; 및 상기 리튬 금속층의 적어도 일면에 형성된 보호층;을 포함하는 리튬 이차전지용 음극으로서,상기 보호층은 3차원 구조체를 포함하되,상기 3차원 구조체는 금속 및 질화리튬을 포함하는 것인, 리튬 이차전지용 음극
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제1항에 있어서,상기 금속은 Cu, Si, Ge, Zn 및 Ti로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 리튬 친화적 금속(Lithiophilic Metal)을 포함하는 것인, 리튬 이차전지용 음극
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제1항에 있어서,상기 보호층의 두께는 1 내지 30 ㎛인, 리튬 이차전지용 음극
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제1항에 있어서,상기 3차원 구조체는 금속 50 내지 99 중량% 및 질화리튬 1 내지 50 중량%를 포함하는 것인, 리튬 이차전지용 음극
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제1항에 있어서,상기 리튬 금속층의 두께는 1 내지 700 ㎛인, 리튬 이차전지용 음극
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(S1) 에칭 용액에 금속을 침지시켜, 3차원 구조의 금속 수산화물을 형성하는 단계;(S2) 상기 3차원 구조의 금속 수산화물을 질화(nitration) 반응시켜, 3차원 구조의 금속 질화물을 형성하는 단계; 및(S3) 상기 3차원 구조의 금속 질화물을 리튬 금속층 상에 전사시켜, 금속 및 질화리튬을 포함하는 3차원 구조체를 포함하는 보호층을 형성하는 단계;를 포함하는 리튬 이차전지용 음극의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 (S1) 단계에서, 상기 에칭 용액은 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 수산화리튬 및 암모니아로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 알카라인(alkaline)을 포함하는 것인, 리튬 이차전지용 음극의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 에칭 용액은 과황산암모늄(Ammonium persulfate), 과황산나트륨 및 과황산칼륨으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 과황산염을 더 포함하는 것인, 리튬 이차전지용 음극의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 (S2) 단계에서, 상기 질화 반응은 불활성 분위기 하에서 상기 3차원 구조의 금속 수산화물에 질소공급원 가스를 반응시켜 수행되는 것인, 리튬 이차전지용 음극의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 질소공급원 가스는 암모니아(NH3), 질소(N2) 및 아산화질소(N2O)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인, 리튬 이차전지용 음극의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 (S3) 단계에서, 상기 3차원 구조의 금속 질화물을 상기 리튬 금속층에 접하게 한 후 가압하여 전사시키는 것인, 리튬 이차전지용 음극의 제조방법
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제1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 음극을 포함하는 리튬 이차전지
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