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-Br, -NH2, -I 및 -NO2 로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 메탄 선택적 작용기를 가지는 UiO형 유무기 복합 다공체; 및고분자 매트릭스를 포함하는, 메탄 선택성 복합 분리막
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제 1항에 있어서,상기 UiO형 유무기 복합 다공체는 UiO-66형 골격을 포함하는 것인, 메탄 선택성 복합 분리막
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제 1항에 있어서,UiO형 유무기 복합 다공체는 UiO-66_Br, UiO-66_2Br, UiO-66_NH2, UiO-66_2NH2, UiO-66_I, UiO-66_2I 및 UiO-66_NO2, UiO-66_2NO2 으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상을 포함하는 것인, 메탄 선택성 복합 분리막
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제 1항에 있어서, 상기 고분자 매트릭스는 폴리에테르-폴리아미드 블록 공중합체(PEBAX), 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체(SBS), 폴리디메틸실옥산(PDMS), 폴리(파라-실페닐렌 실옥산)(Poly(para-silphenylene siloxane)), 폴리(실옥틸렌 실옥산)(Poly(siloctylene siloxane))으로 이루어진 군에서 하나 또는 둘 이상 선택되는 고무상 고분자인, 메탄 선택성 복합 분리막
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제 1항에 있어서,상기 UiO형 유무기 복합 다공체는 복합 분리막 전체 중량 대비 1 내지 50 중량%가 고분자 매트릭스에 분산된 형태로 포함되는 것인, 메탄 선택성 복합 분리막
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제 1항에 있어서,상기 복합 분리막은 다층구조의 형태인 메탄 선택성 복합 분리막
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제 6항에 있어서,상기 다층구조는 복합 분리막 전체 중량 대비 5 내지 20 중량%의 UiO형 유무기 복합 다공체를 포함하는 제 1층, 상기 제 1층 상에 위치하며 1 내지 10 중량%의 UiO형 유무기 복합 다공체를 포함하는 제 2층, 상기 제 2층 상에 위치하며 5 내지 10 중량%의 UiO형 유무기 복합 다공체를 포함하는 제 3층으로 이루어진 메탄 선택성 복합 분리막
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제 1항에 있어서,상기 메탄 선택성 복합 분리막은 메탄 및 질소가 포함된 혼합기체로부터 메탄 투과도가 4 내지 20 이고 메탄/질소의 선택도는 4 내지 10 인 메탄 선택성 복합 분리막
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(a) 고분자를 용매로 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계;(b) -Br, -NH2, -I 및 -NO2으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 메탄 선택적 작용기를 가지는 UiO형 유무기 복합 다공체를 용매 중에 분산시켜 UiO형 유무기 복합 다공체 분산액을 제조하는 단계; (c) 상기 UiO형 유무기 복합 다공체 분산액에 고분자 용액을 첨가하여 혼합액을 제조하는 단계; 및 (d) 상기 혼합액을 성형하여 복합 분리막을 제조하는 단계를 포함하는 메탄 선택성 복합 분리막의 제조방법
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10
제 9항에 있어서,상기 고분자는 폴리에테르-폴리아미드 블록 공중합체(PEBAX), 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체(SBS), 폴리디메틸실옥산(PDMS), 폴리(파라-실페닐렌 실옥산)(Poly(para-silphenylene siloxane)), 폴리(실옥틸렌 실옥산)(Poly(siloctylene siloxane))으로 이루어진 군에서 하나 또는 둘 이상 선택되는 고무상 고분자인 메탄 선택성 복합 분리막의 제조방법
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11
제 9항에 있어서,상기 UiO형 메탄 흡착성 다공체의 함량은 메탄 선택성 복합 분리막 전체 중량 대비 1 내지 50 중량%로 포함되는 메탄 선택성 복합 분리막의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 (d) 단계를 반복하여 다층구조의 복합 분리막을 제조하는 단계를 더 포함하는 것인, 메탄 선택성 복합 분리막의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 메탄 선택성 복합 분리막의 제조방법은 상기 (d) 단계 이후 (e) 열처리 또는 진공처리하는 단계를 더 포함하는 메탄 선택성 복합 분리막의 제조방법
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14
제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 메탄 선택성 복합 분리막을 사용하여 메탄 및 질소를 포함하는 혼합기체로부터 메탄을 선택적으로 분리 또는 농축시키는 방법
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제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 메탄 선택성 복합 분리막을 포함하는 메탄 분리 또는 농축용 장치
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