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공정 챔버와 연결된 제1 진공관과, 진공 펌프와 연결된 제2 진공관 사이에 설치된 본체;적어도 하나의 개구가 형성된 관형부와, 관형부의 일측 단부를 막는 판형부를 포함하는 바스켓 형태이며, 내부 공간이 상기 제1 진공관과 상기 제2 진공관 중 어느 하나와 바로 통하도록 상기 본체의 내부에 고정된 접지 전극;상기 관형부와 마주하도록 상기 본체에 설치된 유전체; 및상기 유전체의 외면에 위치하며, 전원으로부터 구동 전압을 인가받아 상기 관형부 주위로 플라즈마를 생성하는 고전압 전극을 포함하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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제1항에 있어서,상기 개구의 전체 면적은 상기 본체에서 공정 가스가 유입되는 입구 면적과 같거나 이보다 크고, 상기 본체에서 공정 가스가 배출되는 출구 면적과 같거나 이보다 큰 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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3
제2항에 있어서,상기 본체와 상기 관형부는 다각의 관형으로 이루어지고,상기 관형부를 구성하는 복수의 면 중 적어도 하나에 상기 개구가 위치하며,상기 유전체는 상기 개구가 형성된 상기 관형부의 면과 마주하도록 상기 본체에 설치되는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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제2항에 있어서,상기 제1 진공관을 향한 상기 관형부의 일측 단부가 상기 본체에 고정되고,상기 판형부는 상기 관형부의 타측 단부에 연결되며, 상기 본체 및 상기 제2 진공관과 거리를 두고 위치하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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5
제2항에 있어서,상기 제2 진공관을 향한 상기 관형부의 일측 단부가 상기 본체에 고정되고,상기 판형부는 상기 관형부의 타측 단부에 연결되며, 상기 본체 및 상기 제1 진공관과 거리를 두고 위치하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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제3항에 있어서,상기 본체는 상기 제1 진공관에 접속된 유입부와, 상기 제2 진공관에 접속된 배출부와, 유입부와 배출부 사이에 위치하는 중간부를 포함하며,상기 유입부와 상기 중간부 및 상기 배출부는 상기 제1 진공관의 길이 방향과 교차하는 방향을 따라 일렬로 위치하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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제6항에 있어서,상기 접지 전극은 내부 공간이 상기 제1 진공관과 바로 통하도록 상기 유입부의 내부에 고정되고,상기 관형부를 구성하는 복수의 면 중 상기 중간부와 마주하는 면을 제외한 나머지 면에 상기 개구가 위치하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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제6항에 있어서,상기 접지 전극은 내부 공간이 상기 제2 진공관과 바로 통하도록 상기 배출부의 내부에 고정되고,상기 관형부를 구성하는 복수의 면 중 상기 중간부와 마주하는 면을 제외한 나머지 면에 상기 개구가 위치하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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제7항 또는 제8항에 있어서,상기 중간부에 설치된 제2 유전체와, 제2 유전체의 외면에 위치하는 제2 고전압 전극을 더 포함하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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10
제9항에 있어서,상기 관형부를 구성하는 복수의 면 중 상기 중간부와 마주하는 면에 적어도 하나의 개구가 추가로 위치하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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11
제1 진공관에 의해 공정 챔버와 연결되며 제1 유전체를 지지하는 유입부와, 제2 진공관에 의해 진공 펌프와 연결되며 제2 유전체를 지지하는 배출부와, 유입부와 배출부 사이에 위치하는 중간부를 포함하는 본체;적어도 하나의 제1 개구가 형성된 제1 관형부와, 제1 관형부의 일측 단부를 막는 제1 판형부를 포함하는 바스켓 형태이며, 내부 공간이 상기 제1 진공관과 바로 통하도록 상기 유입부의 내부에 고정된 제1 접지 전극;적어도 하나의 제2 개구가 형성된 제2 관형부와, 제2 관형부의 일측 단부를 막는 제2 판형부를 포함하는 바스켓 형태이고, 내부 공간이 상기 제2 진공관과 바로 통하도록 상기 배출부의 내부에 고정된 제2 접지 전극; 및상기 제1 유전체의 외면과 상기 제2 유전체의 외면 각각에 위치하며, 전원으로부터 구동 전압을 인가받는 제1 고전압 전극 및 제2 고전압 전극을 포함하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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12
제11항에 있어서,상기 제1 개구의 전체 면적과, 상기 제2 개구의 전체 면적과, 상기 중간부의 내부 면적 각각은, 상기 본체에서 공정 가스가 유입되는 입구 면적과 같거나 이보다 크고, 상기 본체에서 공정 가스가 배출되는 출구 면적과 같거나 이보다 큰 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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13
제12항에 있어서,상기 유입부와 상기 중간부 및 상기 배출부는 상기 제1 진공관의 길이 방향을 따라 일렬로 위치하고,상기 제1 판형부와 상기 제2 판형부는 상기 중간부와 거리를 두고 위치하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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제12항에 있어서, 상기 중간부에 제3 유전체가 설치되고,상기 제3 유전체의 외면에 제3 고전압 전극이 위치하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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제14항에 있어서,상기 중간부는, 상기 유입부에 연결되며 일측 단부가 바닥부에 의해 막힌 관형으로 이루어진 제1 중간부와, 바닥부와 거리를 두고 제1 중간부의 측면에 접속되며 상기 배출부에 연결된 제2 중간부를 포함하고,상기 제3 유전체는 상기 제2 중간부에 설치되는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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16
제14항에 있어서,상기 유입부와 상기 중간부 및 상기 배출부는 상기 제1 진공관의 길이 방향과 교차하는 방향을 따라 일렬로 위치하고,상기 제1 관형부와 상기 제2 관형부 각각은 복수의 면을 포함하며, 상기 중간부와 마주하는 면을 제외한 나머지 면에 상기 제1 개구와 상기 제2 개구를 각각 형성하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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제16항에 있어서,상기 제1 관형부를 구성하는 복수의 면 중 상기 중간부와 가장 멀리 떨어진 하나의 면은 상기 유입부에 고정되거나 상기 유입부와 일체로 구성될 수 있고,상기 제2 관형부를 구성하는 복수의 면 중 상기 중간부와 가장 멀리 떨어진 하나의 면은 상기 배출부에 고정되거나 상기 배출부와 일체로 구성되는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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제16항 또는 제17항에 있어서,상기 중간부와 마주하는 상기 제1 관형부의 면과 상기 제2 관형부의 면 각각에 적어도 하나의 제1 개구와 적어도 하나의 제2 개구가 추가로 위치하는 공정 부산물 제거를 위한 플라즈마 반응장치
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증착과 식각 중 적어도 하나의 공정이 진행되는 공정 챔버;진공관에 의해 상기 공정 챔버와 연결되며, 상기 공정 챔버의 내부를 배기시키는 진공 펌프; 및상기 진공관에 설치되며, 상기 공정 챔버에서 배출되는 공정 가스 중의 부산물을 제거하는, 제1항 내지 제8항 및 제11항 내지 제17항 중 어느 한 항에 따른 플라즈마 반응장치를 포함하는 반도체 공정 설비
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