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다공성(Porous) 고분자 스캐폴드(Scaffold); 및상기 다공성 고분자 스캐폴드 표면에 결합된 자성 나노입자;를 포함하는 마이크로스캐폴드(Microscaffold)
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제 1 항에 있어서, 상기 다공성 고분자는 PLGA(poly(lactic-co-glycolic acid)), PGA(poly(glycolic acid)), PLA(poly(lactic acid)), PEG(poyethylene glycol), 콜라겐(Collagen), 히알루론산(Hyaluronic acid), 젤라틴(Gelatin) 및 키토산(Chitosan)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것인, 마이크로스캐폴드
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제 1 항에 있어서, 상기 자성 나노입자는 Fe, Co, Mn, Ni, Gd, Mo, MM'2O4, MxOy(M 및 M'은 각각 독립적으로 Fe, Co, Ni, Mn, Zn, Gd 또는 Cr이고, x는 1 내지 3의 정수, y는 1 내지 5의 정수 임), CoCu, CoPt, FePt, CoSm, NiFe 및 NiFeCo로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것인, 마이크로스캐폴드
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제 1 항에 있어서, 상기 자성 나노입자는 양전하를 띠는 고분자로 코팅된 것인, 마이크로스캐폴드
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제 4 항에 있어서, 상기 양전하를 띠는 고분자는 키토산(Chitosan), 콜라겐(Collagen) 및 폴리에틸렌이민(Polyethyleneimine)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인, 마이크로스캐폴드
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제 1 항에 있어서, 상기 자성 나노입자는 상기 다공성 고분자 스캐폴드 표면에 정전기적(Electrostatic)으로 결합된 것인, 마이크로스캐폴드
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제 1 항 내지 제 6 항의 마이크로스캐폴드를 포함하는 조직재생용 조성물
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다음의 단계를 포함하는 마이크로스캐폴드(Microscaffold)의 제조방법:다공성 고분자 스캐폴드를 제조하는 스캐폴드 제조 단계;자성 나노입자를 양전하를 띠는 고분자로 코팅하는 코팅 단계; 및상기 다공성 고분자 스캐폴드 및 상기 코팅된 자성 나노입자를 결합하는 마이크로스캐폴드 제조 단계
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제 8 항에 있어서, 상기 스캐폴드 제조 단계는 유체장치(Fluidic device)를 이용한 에멀전화(Emulsification)에 의해 수행되는 것인, 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 양전하를 띠는 고분자는 키토산(Chitosan), 콜라겐(Collagen) 및 폴리에틸렌이민(Polyethyleneimine)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상을 이용하여 수행되는 것인, 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 자성-스캐폴드 제조 단계의 자성 나노입자 및 다공성 고분자 스캐폴드는 정전기적(Electrostatic)으로 결합하는 것인, 방법
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