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고분자-고분자 복합체에서 규소 함유 고분자 층 분리 방법에 있어서, 표면에 규소 함유 고분자 층이 형성된 고분자 복합체를 비드(bead)와 용매(solvent)로 구성된 현탁액을 이용하여 규소 함유 고분자층을 스웰링(swelling)시키고 떼어내는 단계;상기 고분자 복합체를 상기 현탁액으로부터 분리시키는 단계; 및상기 고분자 복합체를 건조시키는 단계를 포함하고,상기 용매는,다이아이소프로필아민(diisopropylamine), 트리에틸아민(triethylamine), 펜탄(pentane), 자일렌(xylene), 클로로폼(chloroform), 에테르(ether), 테트라히드로푸란(tetrahydrofuran), 헥산(hexane), 트리클로로에틸렌(trichloroethylene), 노멀-헵탄(n-heptane), 사이클로헥세인(cyclohexane), 디메톡시에탄(dimethoxyethane), 톨루엔(toluene), 벤젠(benzene), 클로로벤젠(chlorobenzene), 메틸렌 클로라이드(methylene chloride), t-부틸 알코올(tert-butyl alcohol), 2-부탄온(2-butanone), 에틸아세테이트(ethyl acetate), 디옥산(dioxane), 1-프로판올(1-propanol), 아세톤(acetone), 피리딘(pyridine), 에틸 알코올(ethyl alcohol), 디메틸 카보네이트(dimethyl carbonate), 디메틸포름아미드(dimethylformamide), 메탄올(methanol), 페놀(phenol), 프로필렌 카보네이트(propylene carbonate), 또는 아세토나이트릴(acetonitrile) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 고분자 복합체를 상기 현탁액으로부터 분리시키는 단계 후에, 상기 고분자 복합체를 용매로 세척하는 단계 - 상기 규소 함유 고분자 층의 나머지가 상기 고분자 복합체로부터 상기 용매로 분리됨 -; 및상기 고분자 복합체를 상기 용매로부터 분리시키는 단계를 더 포함하는 방법
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삭제
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제 1 항에 있어서, 상기 비드들의 모스 경도(Mohs hardness)는,1
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제 1 항에 있어서, 상기 비드들의 지름은,0
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제 1 항에 있어서, 상기 고분자 복합체를 상기 현탁액을 이용하여 규소 함유 고분자 층을 스웰링(swelling)시키고 떼어내는 단계는,상기 규소 함유 고분자 층이 형성된 상기 고분자 복합체와 상기 현탁액을 5 rpm 이상이고 50,000 rpm 이하인 속도로 함께 회전시켜, 상기 고분자 복합체를 상기 현탁액을 이용하여 규소 함유 고분자 층을 스웰링(swelling)시키고 떼어내는 단계를 포함하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 용매의 부피는,상기 고분자 층이 형성된 상기 고분자 복합체의 양에 대해, 1 배 이상이고, 100 배 이하인 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 비드들의 양은,상기 용매의 부피에 대해, 0
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제 2 항에 있어서, 상기 고분자 복합체를 상기 용매로 세척하는 단계는,상기 고분자 복합체와 상기 용매를 5 rpm 이상이고 50,000 rpm 이하인 속도로 함께 회전시켜, 상기 고분자 복합체를 세척하는 단계를 포함하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 고분자 복합체를 상기 현탁액으로부터 분리시키는 단계는,상기 현탁액을 배수시키는 단계를 포함하는 방법
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제 2 항에 있어서, 상기 고분자 복합체를 상기 용매로부터 분리시키는 단계는,상기 용매를 배수시키는 단계를 포함하는 방법
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