| 1 |
1
악취 포함 기체가 통과하는 챔버의 일부에 설치되고, 플라즈마가 생성되는 제1 플라즈마 생성부 및상기 제1 플라즈마 생성부에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고,상기 제1 플라즈마 생성부는,유연성을 가지는 복수개의 제1 전극,상기 제1 전극의 하부에 위치하고, 상기 제1 전극과 교차하며 위치하고 유연성을 가지는 복수개의 제2 전극, 및상기 복수개의 제1 전극의 서로 이격된 이격부와 상기 복수개의 제2 전극의 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제1 격자부,를 포함하고상기 전원공급부의 전원 공급에 의해 상기 제1 플라즈마 생성부에 플라즈마가 생성되어 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
| 2 |
2
제1항에서,상기 제1 플라즈마 생성부는, 상기 챔버와 연결된 덕트에 설치되고, 상기 덕트에서 플라즈마를 발생시키고 상기 챔버의 내부로 오존이 유입되어 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
| 3 |
3
제2항에서,상기 제1 전극과 대향하며 위치하는 복수개의 제3 전극을 포함하고 상기 덕트에서 제1 플라즈마 생성부와 이격하며 설치되는 제2 플라즈마 생성부를 더 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
| 4 |
4
제3항에서,상기 제3 전극은, 상기 제3 전극의 내부로 냉각재가 주입되는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
| 5 |
5
제3항에서,상기 제2 플라즈마 생성부는, 상기 제3 전극과 교차하며 위치하는 복수개의 제4 전극을 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
| 6 |
6
제5항에서,상기 제2 플라즈마 생성부는, 상기 복수개의 제3 전극의 서로 이격된 이격부와 상기 복수개의 제4 전극의 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제2 격자부를 포함하고, 상기 제2 격자부의 면적은 상기 제1격자부의 면적과 상이한 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
| 7 |
7
제1항에서,상기 제1 플라즈마 생성부는, 상기 챔버의 본체에 설치되고, 상기 챔버에서 플라즈마를 발생시켜 상기 챔버의 내부로 플라즈마 및 오존이 유입되어 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
| 8 |
8
제7항에서,복수개의 제5 전극 및 상기 제5 전극과 교차하며 위치하는 복수개의 제6 전극을 포함하고 상기 챔버에서 상기 제1 플라즈마 생성부와 이격하며 설치되는 제3 플라즈마 생성부를 더 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
| 9 |
9
제8항에서,상기 제5 전극은, 상기 제1 전극과 미리 설정된 각도를 이루며 연장되고, 상기 제6 전극은 상기 제2 전극과 미리 설정된 각도를 이루며 연장되는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
| 10 |
10
제1항에서,상기 챔버는, 상기 챔버의 일측 단부와 연결되고, 플라즈마가 회전 유동하면서 상기 챔버를 통과한 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 후단 플라즈마 생성부를 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
| 11 |
11
제10항에서,상기 후단 플라즈마 생성부는, 외부전극, 상기 외부전극의 내부에 위치하는 내부전극 및 상기 외부전극의 내부로 주입된 가스에 와류를 유도하여 플라즈마를 회전 유동 시키는 회전발생기를 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
| 12 |
12
악취 포함 기체가 통과하는 유전체 챔버의 내부에 위치하고, 플라즈마가 생성되는 플라즈마 생성부, 및상기 플라즈마 생성부에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고,상기 플라즈마 생성부는,상기 유전체 챔버의 내부에 위치하고, 상기 유전체 챔버의 일측에서 타측 방향으로 돌출된 톱니부를 포함하는 내부전극을 포함하고,상기 전원공급부의 전원 공급에 의해 상기 유전체 챔버의 내부에 플라즈마가 생성되어 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
|
