요약 | 본 발명에 의한 고분해능의 대면적 미세 패턴 제조 방법 및 그 방법으로 제조된 평판 디스플레이가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법은 기판 상에 금속 유기 이온 잉크를 도포하여 코팅층을 형성하는 잉크 도포 단계; 상기 코팅층이 형성된 기판을 가열하여 상기 코팅층에 다수의 금속 나노 시드를 생성시켜 상기 코팅층이 소정의 열전도도를 갖는 시드 생성 단계; 및 상기 소정의 열전도도를 갖는 코팅층에 베셀 빔을 직접 조사하되, 상기 베셀 빔의 초점이 상기 코팅층 내의 상기 기판에 인접한 미리 정해진 패터닝 영역에 형성되도록 하여, 상기 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드가 성장 소결되어 금속 패턴이 형성되는 패턴 형성 단계;를 포함하고, 상기 패턴 형성 단계에서 상기 금속 나노 시드가 성장 소결되는 소결 영역은 상기 베셀 빔에 의해 상기 패터닝 영역 내에 형성되는 레이저 조사 영역보다 작게 형성된다. |
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Int. CL | G03F 7/00 (2006.01.01) G03F 7/20 (2006.01.01) G03F 7/38 (2006.01.01) H01L 21/027 (2006.01.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020190149369 (2019.11.20) |
출원인 | 금오공과대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2019-0132324 (2019.11.27) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | 10-2017-0143234 (2017.10.31) |
관련 출원번호 | 1020170143234 |
심사청구여부/일자 | Y (2020.10.07) |
심사청구항수 | 9 |