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Ni계 비정질 합금에 있어서,Ni, Ta 및 Nb를 포함하고,조성식 Ni100-a-bTaaNbb로 표현되고,상기 a 및 b는 각각 Ta 및 Nb의 원자%이고,상기 a는 1≤a≤30이고, 상기 b는 5≤b≤40 인 것을 특징으로 하는 Ni계 비정질 합금
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제1항에 있어서,상기 Ni계 비정질 합금의 유리전이온도(Tg)는 900 내지 1,000 ℃ 인 것을 특징으로 하는 Ni계 비정질 합금
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제1항에 있어서,상기 Ni계 비정질 합금은 Mo을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 Ni계 비정질 합금
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제3항에 있어서,상기 Mo를 포함하는 Ni계 비정질 합금의 조성식은 Ni100-a-bTaaNbbMoc로 표현되고, 상기 c는 Mo의 원자%이고,상기 c는 1≤c≤15 인 것을 특징으로 하는 Ni계 비정질 합금
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제1항에 있어서,상기 Ni계 비정질 합금은 나노 결정상이 석출된 비정질 기지 복합재인 것을 특징으로 하는 Ni계 비정질 합금
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제1항에 있어서,상기 Ni계 비정질 합금은 리본 형상으로 성형된 것을 특징으로 하는 Ni계 비정질 합금
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제1항 내지 제6항의 어느 한 항에 있어서,상기 Ni계 비정질 합금으로 피막 처리된 바이오매스 플랜트
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제7항에 있어서,상기 바이오매스 플랜트의 슈퍼히터 도관이 상기 Ni계 비정질 합금으로 피막 처리된 것을 특징으로 하는 바이오매스 플랜트
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Ni계 비정질 합금의 제조방법에 있어서,Ni, Ta 및 Nb를 포함하는 Ni계 비정질 합금 재료를 용해하여 모합금을 제조하는 단계; 및상기 모합금을 급속응고법(melt spinning)으로 리본 형상으로 성형하는 단계를 포함하고,상기 모합금은 조성식 Ni100-a-bTaaNbb로 표현되고,상기 a 및 b는 각각 Ta 및 Nb의 원자%이고,상기 a는 1≤a≤30이고, 상기 b는 5≤b≤40 인 것을 특징으로 하는 Ni계 비정질 합금의 제조방법
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제9항에 있어서,열처리 단계를 더 포함하고,상기 열처리 단계는 나노 결정상을 석출하도록 730 내지 800K 온도 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 Ni계 비정질 합금의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 Ni계 비정질 합금 재료는 Mo을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 Ni계 비정질 합금의 제조방법
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제11항에 있어서,상기 Mo를 포함하는 상기 모합금의 조성식은 Ni100-a-bTaaNbbMoc로 표현되고, 상기 c는 Mo의 원자%이고,상기 c는 1≤c≤15 인 것을 특징으로 하는 Ni계 비정질 합금의 제조방법
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