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베이스필름을 준비하는 단계;상기 베이스필름상에 광경화성 또는 열경화성 용액성 물질을 도포한 후, 광경화 또는 열경화 하여 적어도 한층 이상의 제1 투습방지층을 적층하는 단계; 및상기 베이스필름상에 원자층증착방법(ALD, atomic layer deposition)을 통해 상기 제1 투습방지층 전체 두께의 1/2 내지 1/3의 두께로 형성된 적어도 한층 이상의 제2 투습방지층을 적층하는 단계를 포함하는 하이브리드 투습방지층의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 제1 투습방지층은 유브이(UV) 또는 딥유브이(DUV, deep UV)로 광경화 되는 광경화성 물질 또는 열경화성 물질로 산화알루미늄(Al2O3), 퍼하이드로폴리시라잔(Perhydropolysilazane), 이그조(IGZO, Indium gallium zinc oxide ), 무기물 폴리시라잔(Inorganic Polysilazane) 또는 이들의 조합으로 이루어 지고,상기 제2 투습방지층은 산화알루미늄(Al2O3)으로 이루어지는 하이브리드 투습방지층의 제조방법
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청구항 2에 있어서,상기 제1 투습방지층을 적층하는 단계는, 상기 제1 투습방지층은 몰농도 0
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베이스필름을 준비하는 단계;상기 베이스필름상에 평탄화층을 형성하는 단계;상기 베이스필름상에 광경화성 또는 열경화성 용액성 물질을 도포한 후, 광경화 또는 열경화 하여 적어도 한층 이상의 제1 투습방지층을 적층하는 단계; 및상기 베이스필름상에 원자층증착방법(ALD, atomic layer deposition)을 통해 상기 제1 투습방지층 전체 두께의 1/2 내지 1/3의 두께로 형성된 적어도 한층 이상의 제2 투습방지층을 적층하는 단계;를 포함하는 하이브리드 투습방지층의 제조방법
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청구항 4에 있어서,상기 평탄화층은 SiO2, SiOx, SiNx, TaOx, AlOx, ZrO2, PE-TEOS, Si3N4, Poly-Si, TiO2 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종을 포함하며, 여기서 x는 자연수이며,상기 제1 투습방지층은 유브이(UV) 또는 딥유브이(DUV, deep UV)로 광경화 되는 광경화성 물질 또는 열경화성 물질로 산화알루미늄(Al2O3), 퍼하이드로폴리시라잔(Perhydropolysilazane), 이그조(IGZO, Indium gallium zinc oxide ), 무기물 폴리시라잔(Inorganic Polysilazane) 또는 이들의 조합으로 이루어 지고,상기 제2 투습방지층은 산화알루미늄(Al2O3)으로 이루어지는 하이브리드 투습방지층의 제조방법
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청구항 5에 있어서,상기 제1 투습방지층을 적층하는 단계는, 상기 제1 투습방지층은 몰농도 0
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