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상부에 위치한 웨이퍼를 연마하도록 마련된 폴리싱 패드;상기 폴리싱 패드 상에 형성되며, 상기 폴리싱 패드의 상부를 향해 돌출 형성된 복수의 도형유닛; 및복수의 상기 도형유닛으로 이루어지는 복수의 패턴유닛을 포함하며,복수의 상기 패턴유닛은 상기 폴리싱 패드 상에 동심원 형태로 배열된 것을 특징으로 하는 연마액의 유동 저항 구조를 갖는 연마용 패드
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제 1 항에 있어서,상기 패턴유닛은,상기 폴리싱 패드 전체에서 상기 웨이퍼의 연마 특성이 기설정된 오차율 이내를 만족하는 균일한 연마가 이루어지도록 하기 위해, 상기 폴리싱 패드의 회전 방향에 따른 각각의 상기 패턴유닛 내 연마액의 유동방향이 동일해지도록 하는 개수로 상기 폴리싱 패드를 분할하여 마련된 것을 특징으로 하는 연마액의 유동 저항 구조를 갖는 연마용 패드
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제 1 항에 있어서,상기 도형유닛은,회전 방향에 따라 유동하는 연마액이 상기 도형유닛의 상부를 향해 이동하도록 배열된 것을 특징으로 하는 연마액의 유동 저항 구조를 갖는 연마용 패드
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제 3 항에 있어서,상기 도형유닛은,하나의 단일 폐곡선으로 둘러싸인 단일도형부;단일 폐곡선 없이 연속된 선에 의해서 형성되며 반복의 최소 단위로 이루어진 연속도형부;복수의 상기 단일도형부의 조합으로 이루어지며 반복의 최소 단위로 이루어진 집합도형부를 포함하며,상기 도형유닛은 상기 단일도형부, 상기 연속도형부 및 상기 집합도형부 중 어느 하나의 종류를 포함하도록 형성된 것을 특징으로 하는 연마액의 유동 저항 구조를 갖는 연마용 패드
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제 4 항에 있어서,상기 도형유닛은,상기 집합도형부 및 상기 연속도형부 내측에 유입된 연마액이 상기 폴리싱 패드의 바깥쪽으로 유출되는 것을 가로막도록 배열된 것을 특징으로 하는 연마액의 유동 저항 구조를 갖는 연마용 패드
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제 1 항에 있어서,상기 도형유닛은 목표로 하는 연마 특성에 대응되는 겉보기 접촉 면적 및 단위 면적당 둘레 길이를 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 연마액의 유동 저항 구조를 갖는 연마용 패드
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제 6 항에 있어서,상기 겉보기 접촉 면적은,검사 면적 안에 포함된 상기 도형유닛의 돌출면적(Au)을 검사면적(A0)으로 나눈 값인 것을 특징으로 하는 연마액의 유동 저항 구조를 갖는 연마용 패드
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제 7 항에 있어서,상기 단위 면적당 둘레 길이는,검사 면적 안에 포함된 상기 도형유닛의 총 둘레길이를(Lt)를 검사면적(A0)으로 나눈 값인 것을 특징으로 하는 연마액의 유동 저항 구조를 갖는 연마용 패드
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제 8 항에 있어서,상기 겉보기 접촉 면적은 1
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제 1 항에 따른 연마액의 유동 저항 구조를 갖는 연마용 패드를 갖는 연마 장치
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