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금속 재질의 도파로;도파로를 감싸는 유전체 재질의 기판; 및기판의 표면에 형성된 금속 재질의 패치;를 포함하며,플라즈모닉스 현상에 따라 도파로와 기판의 계면에서 도파되는 빔이 패치를 통해 방사되는 것을 특징으로 하는 빔 스티어링 장치
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제1항에 있어서,상기 기판의 유전체 굴절률을 변화시켜 패치에서 방사되는 빔을 스티어링하는 것을 특징으로 하는 빔 스티어링 장치
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제2항에 있어서,상기 기판에 가해지는 전기장을 변화시켜 그 유전체 굴절률을 변화시키는 것을 특징으로 하는 빔 스티어링 장치
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제1항에 있어서,상기 도파로는 2개의 밑면 및 이들 밑면 사이의 측면으로 이루어진 기둥 형상이되 그 측면이 기판 내에 삽입된 구조를 가지며, 그 어느 한 밑면으로 빔이 유입되는 것을 특징으로 하는 빔 스티어링 장치
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제1항에 있어서,상기 도파로는 길이 방향의 측면이 모서리를 가지는 다각 기둥 형상인 것을 특징으로 하는 빔 스티어링 장치
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제1항에 있어서,상기 패치는 복수개가 구비되되 각각이 도파로의 길이 방향을 따라 서로 이격되게 배치되는 것을 특징으로 하는 빔 스티어링 장치
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제6항에 있어서,상기 복수개의 패치는 도파로를 사이에 두고 그 양측으로 대칭이 되게 배치되는 것을 특징으로 하는 빔 스티어링 장치
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제6항에 있어서,상기 패치는 기판의 표면으로부터 도출된 기둥 형상인 것을 특징으로 하는 빔 스티어링 장치
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