| 1 |
1
RF 신호를 생성하는 파형 발생부;외부로부터 인가된 교류 전원을 고전압 직류 전원으로 변환하는 고전압 직류 전원부;상기 고전압 직류 전원부로부터 수신된 고전압 직류 전원을 기반으로 상기 RF 신호를 증폭하여 구형파 형상을 갖는 고주파 전압 신호를 출력하는 RF 증폭부; 및상기 RF 증폭부로부터 수신된 고주파 전압 신호를 인체 조직에 인가하는 전극부를 포함하되,상기 RF 증폭부는 상기 고전압 직류 전원부의 출력 단에 연결되어, 상기 고전압 직류 전원부로부터 수신된 고전압 직류 전원을 기반으로 구형파 전압 신호를 생성하는 하프 브릿지 인버터만을 포함하고,상기 하프 브릿지 인버터에서 출력되는 구형파 전압 신호의 절대값은 상기 고전압 직류 전원부의 출력 전압의 절반(1/2)에 대응하며,상기 하프 브릿지 인버터는 제1 및 제2 커패시터(C1, C2), 제1 및 제2 트랜지스터 소자(S1, S2) 및 하나의 변압기(T)를 포함하고,상기 제1 및 제2 트랜지스터 소자(S1, S2)로 입력되는 제1 및 제2 제어 신호(VS1, VS2)는 상기 파형 발생부로부터 수신된 RF 신호에 기초하여 생성되며,상기 제2 제어신호(VS2)는 상기 제1 제어신호(VS1)를 반전한 신호임을 특징으로 하는 전기 수술 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 고전압 직류 전원부, RF 증폭부 및 전극부 중 적어도 하나와 관련된 데이터를 측정하는 센서부; 및상기 센서부로부터 피드백된 측정 데이터를 기반으로 상기 고주파 전압 신호의 출력을 제어하는 제어부를 더 포함하는 전기 수술 장치
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 제어부는, 상기 파형 발생부 또는 RF 증폭부를 제어하여 상기 고주파 전압 신호의 주파수 및 듀티 사이클 중 적어도 하나를 조절하는 것을 특징으로 하는 전기 수술 장치
|
| 4 |
4
제2항에 있어서,상기 제어부는, 상기 고전압 직류 전원부를 제어하여 상기 고주파 전압 신호의 진폭을 조절하는 것을 특징으로 하는 전기 수술 장치
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 고전압 직류 전원부는, 안정된 고전압 직류 전원을 생성하기 위한 위상천이 풀 브릿지 컨버터(phase-shifted full-bridge converter, PSFBC)를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 수술 장치
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 위상천이 풀 브릿지 컨버터는 변압기와, 상기 변압기의 일차 측에 연결되는 스위칭부와, 상기 변압기의 이차 측에 연결되는 정류기를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 수술 장치
|
| 7 |
7
삭제
|
| 8 |
8
삭제
|
| 9 |
9
삭제
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 전극부는, 상기 고주파 전압 신호가 출력되는 전극 팁, 상기 전극 팁을 지지하는 전극 지지부 및 상기 전극 팁의 적어도 일 표면에 코팅된 박막층을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 수술 장치
|
| 11 |
11
제1항에 있어서,상기 전극부는, 상기 고주파 전압 신호가 출력되는 전극 팁, 상기 전극 팁을 지지하는 전극 지지부, 상기 전극 팁의 표면에 부착된 버퍼층 및 상기 버퍼층의 표면에 코팅된 박막층을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 수술 장치
|
| 12 |
12
제10항 또는 제11항에 있어서,상기 박막층은 도전성 박막층임을 특징으로 하는 전기 수술 장치
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 도전성 박막층은, 다이아몬드 박막과, 상기 다이아몬드 박막에 첨가된 불순물을 포함하는 것을 특징으로 전기 수술 장치
|
| 14 |
14
제13항에 있어서,상기 불순물은 붕소(B) 물질임을 특징으로 하는 전기 수술 장치
|
| 15 |
15
제10항 또는 제11항에 있어서,상기 박막층은 유전체 박막층임을 특징으로 하는 전기 수술 장치
|
| 16 |
16
제10항 또는 제11항에 있어서,상기 박막층은, 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) 또는 물리 기상 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD)을 통해 코팅되는 것을 특징으로 전기 수술 장치
|
