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기판상에 제공되는 한 쌍의 배선; 상기 배선에서 연장되고 서로 인접하는 한 쌍의 가지; 및 상기 가지를 연결하는 반도체 채널을 포함하는 단위셀이, 다수개 정렬되고, 상기 반도체 채널의 키네틱 인덕턴스의 임피던스는 상기 단위셀의 기생저항보다 크거나 같은 테라헤르츠 변조기
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제 1 항에 있어서, 상기 반도체 채널의 캐패시턴스의 임피던스는 상기 단위셀의 기생저항보다 크거나 같은 테라헤르츠 변조기
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제 1 항에 있어서, 상기 단위셀은 마이크로 스케일의 크기로 제공되는 테라헤르츠 변조기
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제 1 항에 있어서, 상기 반도체 채널은, InGaAs/InAlAs, AlGaAs/GaAs, 및 InAlGaN/GaN 중 하나의 이종접합구조(heterostructure)에 기반한 반도체 층인 테라헤르츠 변조기
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단일의 테라헤르츠 변조기를 이용하여 원하는 변조주파수가 조정되는 것; 및 조정된 변조주파수에 대응하여 상기 테라헤르츠 변조기가 동작되는 것이 포함되는 테라헤리츠 변조기의 사용방법
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제 5 항에 있어서, 상기 테라헤르츠 변조기는 적어도 두 개의 주파수 중에서 변조주파수가 선택되는 테라헤르츠 변조기의 사용방법
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