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방전기체를 유입하는 유입통로, 상기 유입통로의 일측에 구비되는 고전압 전극, 및 상기 고전압 전극의 일측에 구비되는 접지전극으로 유전체 장벽 방전의 플라즈마를 생성한 후 토출구를 통하여 플라즈마를 토출하는 원격 플라즈마 처리부; 및상기 토출구 측에 구비되어 상기 플라즈마를 무선주파수(RF) 전극으로 경유시켜 피부의 표면에 공급하며, 상기 무선주파수 전극에 연결되는 무선주파수 발생기로 무선주파수 소스를 생성하여 상기 무선주파수 전극을 통하여 무선주파수 자극을 피부의 심부에 작용시키는 무선주파수 자극부를 포함하는 원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제1항에 있어서,상기 원격 플라즈마 처리부는상기 토출구 측에 대향하는 치료 대상인 상기 피부의 표면을 플라즈마로 치료하는원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제2항에 있어서,상기 무선주파수 자극부는상기 무선주파수 전극에 접하는 치료 대상인 상기 피부의 심부를 무선주파수 자극으로 치료하는원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제1항에 있어서,상기 원격 플라즈마 처리부 및 상기 무선주파수 전극이 장착되는 바디를 더 포함하며,상기 바디는 유전체로 형성되는 원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제4항에 있어서,상기 유입통로는 상기 바디의 중심에 길이 방향으로 형성되고,상기 접지전극은 상기 무선주파수 전극의 후방에서 상기 유입통로의 외곽에서 상기 바디에 내장되며,상기 고전압 전극은 상기 접지전극의 후방에서 상기 유입통로의 내부에 배치되는원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제5항에 있어서,상기 토출구는상기 무선주파수 전극을 관통하여 상기 유입통로에 연결되어 상기 플라즈마를 토출하는 원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제6항에 있어서,상기 바디의 외측에 배출통로를 형성하여 상기 플라즈마에서 발생되어 상기 피부의 표면을 치료하고 잔류하는 오존을 배출하는 하우징을 더 포함하는 원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제7항에 있어서,상기 토출구는상기 무선주파수 전극의 직경 방향 중심에 형성되어 상기 유입통로의 연장 방향으로 연장되며,상기 무선주파수 전극은상기 토출구로 배출되는 상기 플라즈마에서 발생되어 상기 피부의 표면을 치료하고 잔류하는 오존을 상기 배출통로로 유도하도록 상기 토출구를 상기 배출통로에 연결하는 유도홈들을 더 구비하는 원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제1항에 있어서,상기 무선주파수 전극이 장착되고 직경 방향 중심에 길이 방향으로 배출통로를 구비하는 바디, 및상기 바디의 직경 방향 외측에 상기 유입통로를 구비하여 배치되는 하우징을 더 포함하는 원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제9항에 있어서,상기 원격 플라즈마 처리부는상기 유입통로를 형성하는 상기 바디와 상기 하우징에 장착되어,상기 플라즈마에서 발생되어 상기 피부의 표면을 치료하고 잔류하는 오존을 상기 배출통로로 배출하는원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제10항에 있어서,상기 접지전극은 상기 무선주파수 전극의 후방에서 상기 유입통로의 외곽에서 상기 하우징에 내장되며,상기 고전압 전극은 상기 접지전극의 후방에서 상기 유입통로의 내부에서 상기 바디에 배치되는원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제11항에 있어서,상기 토출구는상기 유입통로에 연결되어 상기 플라즈마를 토출하도록 상기 바디와 상기 하우징 사이에 형성되는 원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제12항에 있어서,상기 무선주파수 전극은상기 바디의 배출통로 측에 장착되어 상기 토출구로 배출되는 플라즈마에서 발생된 오존을 상기 배출통로로 유도하도록 상기 토출구를 상기 배출통로에 연결하는 연결구와 유도홈들을 구비하는 원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제7항 또는 제13항에 있어서,상기 배출통로에 연결되어 상기 오존을 분해하는 오존 분해 촉매를 더 포함하는 원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제14항에 있어서,상기 오존 분해 촉매의 전방에 배치되어 배출되는 기체에 포함된 수분을 제거하는 히터를 더 포함하는 원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제7항에 있어서,상기 토출구는상기 유입통로의 연장 방향 단부에 형성되며,상기 무선주파수 전극은상기 토출구로 배출되는 상기 플라즈마에서 발생되어 상기 피부의 표면을 치료하고 잔류하는 오존을 상기 배출통로로 유도하도록 상기 하우징의 외곽에 형성되어 상기 토출구를 상기 배출통로에 연결하는원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제6항에 있어서,상기 바디의 외측에 유입통로를 형성하는 제1하우징, 및상기 제1하우징의 외측에 배출통로를 형성하여 상기 플라즈마에서 발생되어 상기 피부의 표면을 치료하고 잔류하는 오존을 배출하는 제2하우징을 더 포함하며,상기 토출구는상기 유입통로의 연장 방향 단부에 형성되는 원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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제17항에 있어서,상기 무선주파수 전극은상기 바디의 직경 방향 중심에 배치되고,상기 제2하우징은상기 토출구로 배출되는 상기 플라즈마에서 발생되어 상기 피부의 표면을 치료하고 잔류하는 오존을 상기 배출통로로 유도하도록 상기 토출구를 상기 배출통로에 연결하는원격 플라즈마와 무선주파수 자극의 복합 치료 장치
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