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피라졸기가 도핑된 전도성 소재
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제 1항에 있어서,상기 전도성 소재는 탄소 소재인, 피라졸기가 도핑된 전도성 소재
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제 2항에 있어서,상기 탄소 소재는 그래핀, 그래핀 산화물, 그래핀 나노리본, 탄소나노튜브, 탄소나노와이어, 탄소섬유, 흑연, 활성탄소, 카본블랙, 풀러렌, 결정성 탄소 및 비결정성 탄소로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인, 피라졸기가 도핑된 전도성 소재
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제 1항에 있어서,상기 전도성 소재에 도핑된 피라졸기는 전도성 소재의 가장자리(edge) 및 외측면(lateral surface)에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 영역에 도핑된 것인, 피라졸기가 도핑된 전도성 소재
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제 1항 내지 제 4항에서 선택되는 어느 한 항의 피라졸기가 도핑된 전도성 소재를 포함하는 촉매
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제 5항에 있어서,상기 촉매는 피라졸기에 의해 산소 발생 반응 및 산소 환원 반응이 각각 스위칭 되는 이중 촉매(bifunctional catalyst) 특성을 가진 것인, 촉매
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제 1항 내지 제 4항에서 선택되는 어느 한 항의 피라졸기가 도핑된 전도성 소재를 포함하는 촉매 전극
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제 7항의 촉매 전극을 포함하는 전지
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제 8항에 있어서,상기 전지는 아연-공기 전지(ZAB)인, 전지
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a) 헤테로 원자로 도핑된 제1탄소 소재를 언집핑하여 말단부에 케톤기를 포함하는 제2탄소 소재를 제조하는 단계;b) 상기 제2탄소 소재를 하이드라진으로 처리하여 제3탄소 소재를 제조하는 단계; 및c) 상기 제3탄소 소재를 열처리하는 단계;를 포함하는 피라졸기가 도핑된 탄소 소재의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 a) 단계는,ⅰ) 제1탄소 소재를 전극에 전사한 후 열처리하여 상기 제1탄소 소재를 전극에 부착하는 단계; 및ⅱ) 산화제를 포함하는 전해액에 상기 제1탄소 소재가 부착된 전극을 투입하고 전압을 인가하여 산화된 제1탄소 소재를 제조하는 단계;를 포함하는 것인, 피라졸기가 도핑된 탄소 소재의 제조방법
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제 11항에 있어서,상기 a) 단계는,ⅲ) 상기 산화된 제1탄소 소재에 물리적인 외부자극을 가하는 단계를 더 포함하는 것인, 피라졸기가 도핑된 탄소 소재의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 b) 단계는,ⅰ) 40 내지 150℃의 하이드라진 수용액에 제2탄소 소재를 침지하는 단계; 및ⅱ) 하이드라진 처리된 제2탄소 소재를 건조하는 단계;를 포함하는 것인, 피라졸기가 도핑된 탄소 소재의 제조방법
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제 13항에 있어서,상기 하이드라진 수용액의 농도는 5 내지 50 M인, 피라졸기가 도핑된 탄소 소재의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 c) 단계의 열처리는 300 내지 850℃의 온도에서 6 내지 24시간 동안 수행되는 것인, 피라졸기가 도핑된 탄소 소재의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 헤테로 원자로 도핑된 제1탄소 소재에서 탄소 소재는 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브, 삼중벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브 및 극초단 탄소나노튜브로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인, 피라졸기가 도핑된 탄소 소재의 제조방법
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