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유입되는 가스를 분배하여 웨이퍼(1)에 증착시키는 화학 기상 증착 반응 장치에 있어서,가스가 통과하는 제1 통로(110)가 형성되며 가스 유입구 측에 위치되는 상부 플레이트(100); 및상기 일면이 상기 상부 플레이트(100)와 밀착되고 타면이 상기 웨이퍼(1)와 마주보게 배치되며 가스가 통과하는 제2 통로(210)가 형성되는 하부 플레이트(200);를 포함하며,상기 상부 플레이트(100)와 상기 하부 플레이트(200) 중 어느 하나의 움직임에 대응하여 상기 제1 통로(110) 및 상기 제2 통로(210)가 형성하는 실효 공극 크기와 개수가 조절되는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 1항에 있어서,상기 상부 플레이트(100)와 상기 하부 플레이트(200)중 어느 하나를 움직이는 가용공극 조절부(300)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 2항에 있어서,상기 가용공극 조절부(300)는 상기 상부 플레이트(100)와 상기 하부 플레이트(200)중 어느 하나 이상을 회전시켜 상기 제1 통로(110)와 상기 제2 통로(210)가 서로 연통되며 형성되는 가용공극의 크기와 개수를 조절하는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 1항 내지 제 3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 제1 통로(110)와 상기 제2 통로(210)는 상기 상부 플레이트(100)와 상기 하부 플레이트(200)의 상하방향 중심축을 중심으로 하는 원을 따라 형성되는 복수개의 제1 통로 단위체와, 제2 통로 단위체를 포함하는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 4항에 있어서,상기 제1 통로 단위체와 상기 제2 통로 단위체가 형성되는 원의 지름은 서로 동일한 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 5항에 있어서,상기 제1 통로(110)는 상기 상부 플레이트(100)의 중심 영역에 형성되는 상부 내측 통로(111)와 가장자리 영역에 형성되는 상부 외측 통로(112)를 포함하고, 상기 제2 통로(210)는 상기 하부 플레이트(100)의 중심 영역에 형성되는 하부 내측 통로(211)와 가장자리에 형성되는 하부 외측 통로(212)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 6항에 있어서, 상기 하부 내측 통로(211)와 상기 하부 외측 통로(212)는 서로 동일한 직경을 가지며, 상기 하부 플레이트(200)의 중심을 지나는 제1 임의의 선(H1) 상에 중심이 위치되는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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8
제 7항에 있어서, 상기 상부 내측 통로(111)와 상기 상부 외측 통로(112)는 원의 가장자리를 따라 연장 형성되는 원호 형상을 가지며, 상기 상부 외측 통로(112)가 상기 상부 내측 통로(111)보다 각지름이 큰 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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9
제 8항에 있어서, 상기 상부 외측 통로(112)의 각지름은 하기 수학식 1에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 7항에 있어서, 상기 상부 내측 통로(111)와 상기 상부 외측 통로(112)는 원의 가장자리를 따라 연장 형성되는 원호 형상을 가지며, 상기 상부 내측 통로(111)는 상기 상부 외측 통로(112)보다 각지름이 큰 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 10항에 있어서, 상기 상부 내측 통로(111)의 각지름은 하기 수학식 2에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 7항에 있어서, 상기 상부 내측 통로(111)와 상기 상부 외측 통로(112)는 원의 가장자리를 따라 연장 형성되는 원호 형상을 가지며, 상기 상부 내측 통로(111)와 상기 상부 외측 통로(112)는 서로 반대 방향으로 연장 형성되는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 12항에 있어서, 상기 상부 외측 통로(112)의 각지름은 하기 수학식 1에 의해 결정되고, 상기 상부 내측 통로(111)의 각지름은 하기 수학식 2에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 7항에 있어서, 상기 상부 내측 통로(111)와 상기 상부 외측 통로(112)는 원의 가장자리를 따라 연장 형성되는 원호 형상을 가지며, 상기 상부 내측 통로(111)와 상기 상부 외측 통로(112)는 상기 하부 내측 통로(211)와 동일한 각지름을 가지는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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15
제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 가용공극 조절부(300)는 상기 상부 플레이트(100)와 상기 하부 플레이트(200) 중 어느 하나 이상을 서로 접하는 면이 위치되는 평면 상에서 수평운동 시켜, 상기 제1 통로(110)와 상기 제2 통로(210)가 연통되며 형성되는 실효공극의 크기와 개수를 조절하는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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16
제 15항에 있어서,상기 제1 통로(110)는 상기 제2 통로(210)와 마주보며, 제2 통로(210) 보다 긴 직경을 가지는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 16항에 있어서,상기 제2 통로(210)는 상기 하부 플레이트(200)의 중심과 인접한 내측에 위치되는 하부 내측 통로(211)와, 가장자리에 인접한 외측에 위치되는 하부 외측 통로(212)를 포함하고, 상기 제1 통로(110)는 상기 하부 내측 통로(211)와 마주보는 상부 내측 통로(111)와, 상기 하부 외측 통로(212)와 마주보는 상부 외측 통로(112)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 17항에 있어서,상기 상부 내측 통로(111)와 상기 상부 외측 통로(112)는 상기 하부 내측 통로(211)와 상기 하부 외측 통로(212)의 중심을 지나는 제2 임의의 선(H2)을 기준으로 보았을 때 각각 좌측과 우측으로 연장 형성된 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 17항에 있어서,상기 상부 내측 통로(111)와 상기 상부 외측 통로(112)는 상기 상부 플레이트(100)를 좌측 또는 우측으로 움직일 때, 상기 하부 플레이트(100)에 형성된 상기 하부 내측 통로(211)와 상기 하부 외측 통로(212)가 모두 개방되는 교차영역과, 상기 상부 플레이트(100)를 좌측 또는 우측으로 움직였을 때, 상기 하부 내측 통로(211)와 상기 하부 외측 통로(212)가 개방되는 비율이 조절되는 가장자리 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 19항에 있어서,상기 교차영역과 상기 가장자리 영역의 길이 비는 1:2인 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 17항에 있어서,상기 상부 내측 통로(111)와 상기 상부 외측 통로(112)는 서로 교차하는 방향으로 연장 형성되어, 상기 상부 플레이트(100)의 전후방향 또는 좌우방향 이동에 대응하여 실효공극의 크기 및 개수가 조절되는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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제 21항에 있어서,상기 상부 내측 통로(111)와 상기 상부 외측 통로(112) 중 어느 하나의 통로는 전후 방향으로 연장 형성되고, 다른 하나의 통로는 좌우 방향으로 연장 형성되는 것을 특징으로 하는, 화학 기상 증착 반응 장치
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