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외부로부터 배기가스가 유입되어 이동되는 헤드부; 상기 헤드부의 전단에 결합되며, 외부로부터 1차 희석공기가 유입되어 이동되도록 안내하는 이젝터부; 상기 이젝터부에서 이동하는 상기 1차 희석공기의 유속을 증가시켜 상기 헤드부로 유입되는 상기 배기가스가 상기 이젝터부의 전방으로 분출되도록 유도하는 노즐부; 상기 이젝터부의 전단에 결합되며, 상기 이젝터부에서 상기 배기가스와 상기 1차 희석공기가 혼합되어 생성된 후 배출되는 1차 희석가스가 외부로부터 유입되는 2차 희석공기와 혼합되어 2차 희석가스가 생성되도록 하는 희석부; 상기 헤드부의 후단에 구비되고, 상기 헤드부로 유입되는 상기 배기가스를 예열하는 예열부; 그리고 상기 헤드부 및 상기 예열부의 사이에 구비되고, 상기 헤드부 및 상기 예열부 방향으로 세척용 유체를 공급하는 세척유체 공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치
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제1항에 있어서, 상기 세척유체 공급부는 상기 세척용 유체를 압축 분사하는 압축부와, 상기 압축부의 전단에 구비되고, 상기 세척용 유체를 건조시키는 건조부와, 상기 건조부의 전단에 구비되고, 상기 세척용 유체에서 이물질을 제거하는 필터부와, 상기 헤드부 및 상기 예열부의 사이에 구비되고, 상기 필터부를 통해 이동하는 상기 세척용 유체의 일부를 상기 헤드부로 안내하고 상기 세척용 유체의 나머지를 상기 예열부로 안내하는 어댑터부를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치
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제1항에 있어서, 상기 예열부는 상기 배기가스를 190℃ 내지 210℃의 온도로 예열하고, 상기 1차 희석가스가 고온희석 방법으로 생성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 생성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급되는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치
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제1항에 있어서, 상기 예열부의 후단에 구비되고, 상기 외부에서 유입되는 배기가스에서 미리 설정된 크기 이하의 타깃입자군을 사이클론 분리하여 상기 예열부로 안내하는 분리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치
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제1항에 있어서, 상기 희석부의 전단에 결합되고, 상기 2차 희석가스의 입자정보를 측정하는 측정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치
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제5항에 있어서, 상기 측정부는 상기 2차 희석가스에 포함된 입자를 하나씩 순차 분사하는 분사부와, 상기 분사부에서 분사되는 상기 입자의 분사경로에 교차하는 방향으로 광을 조사하는 광원과, 상기 분사경로의 일측에 구비되고, 상기 광원에서 조사된 후 상기 분사부에서 분사되는 상기 입자에 의해 산란되는 광을 수광하는 수광부와, 상기 수광부에서 생성하는 광 정보를 기초로, 상기 2차 희석가스에 포함된 입자의 크기 정보를 산출하는 산출부를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치
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제1항에 있어서, 상기 헤드부는 상기 배기가스가 유입되는 공간부와, 중심축 방향으로 관통 형성되어 상기 공간부와 연결되는 관통홀을 가지고, 상기 이젝터부는 중심축 방향으로 관통 형성되어 상기 관통홀과 연결되는 제1토출홀과, 상기 1차 희석공기를 상기 제1토출홀로 안내하는 제1유입구를 가지며, 상기 제1토출홀은 상기 이젝터부의 후단에 형성되고 상기 제1유입구와 연결되는 흡인부와, 상기 흡인부의 전단에 형성되는 가속부와, 상기 가속부의 전단에 형성되는 확산부를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치
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제7항에 있어서, 상기 노즐부는 상기 공간부의 내측면에 결합되는 플랜지부와, 상기 플랜지부와 연결되고 상기 관통홀 및 상기 흡인부의 내측에 구비되는 연결부와, 상기 연결부의 전단에 형성되며 상기 가속부의 내경에 대응되는 외경을 가지고 상기 가속부에 삽입되는 노즐팁부를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치
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제8항에 있어서, 상기 노즐팁부는 외주면에 상기 흡인부로 유입되는 상기 1차 희석공기가 상기 확산부로 배출되도록 하는 제1토출유로를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치
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제8항에 있어서, 상기 가속부는 내주면에 상기 흡인부로 유입되는 상기 1차 희석공기가 상기 확산부로 배출되도록 하는 제2토출유로를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치
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