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폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인의 제조방법

  • 기술번호 : KST2021000626
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 제 1 용액 및 PDMS를 포함하는 용액을 준비하는 제 1 단계; 상기 제 1 용액의 표면에 상기 폴리디메틸실록산(PDMS)을 포함하는 용액을 배치하는 제 2 단계; 및 상기 폴리디메틸실록산(PDMS)을 포함하는 용액을 경화하여 제 1 PDMS 층을 형성하는 제 3 단계;를 포함하며, 상기 제 1 PDMS 층은 평면 및 곡면 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL C08J 5/18 (2006.01.01)
CPC C08J 5/18(2013.01) C08J 2383/04(2013.01)
출원번호/일자 1020190088685 (2019.07.23)
출원인 중앙대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0011593 (2021.02.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.07.23)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 중앙대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 동작구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박중열 서울특별시 동작구
2 김대한 경기도 남양주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인아이피매그나 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로 **길 *,양재DS타워 *층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2019.07.23 수리 (Accepted) 1-1-2019-0753709-72
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.29 수리 (Accepted) 4-1-2019-5151122-15
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.01 수리 (Accepted) 4-1-2019-5153932-16
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2019.09.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제 1 용액 및 폴리디메틸실록산(PDMS)을 포함하는 용액을 준비하는 제 1 단계;상기 제 1 용액의 표면에 상기 폴리디메틸실록산(PDMS)을 포함하는 용액을 배치하는 제 2 단계; 및상기 폴리디메틸실록산(PDMS)을 포함하는 용액을 경화하여 제 1 PDMS 층을 형성하는 제 3 단계;를 포함하며,상기 제 1 PDMS 층은 평면 및 곡면 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제 1 단계는,상기 PDMS를 포함하는 용액을 배치하는 상기 제 1 용액 표면적, 크기 및 형상 중 어느 하나를 조절하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인의 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 제 2 단계의 제 1 용액의 표면은 평면 및 곡면 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인의 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 경화된 제 1 PMDS층을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인의 제조방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 경화된 제 1 PDMS층상에 제 2 용액을 배치하는 단계; 상기 제 2 용액의 표면에 상기 폴리디메틸실록산(PDMS)을 포함하는 용액을 배치하는 단계; 및상기 폴리디메틸실록산(PDMS)을 포함하는 용액을 경화하여 제 1 PDMS 층상에 제 2 PDMS 층을 형성하는 제 3 단계;를 포함하는,폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인의 제조방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 제 2 PDMS층은 상기 제 1 PDMS 층 표면 중 적어도 일부에 형성된 것을 특징으로 하는폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인의 제조방법
7 7
제 1 항에 있어서,상기 제 1 단계는 상기 폴리디메틸실록산(PDMS)을 포함하는 용액의 온도를 조절하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인의 제조방법
8 8
제 1 항에 있어서,상기 제 3 단계의 경화는 상기 폴리디메틸실록산(PDMS)을 포함하는 용액을 400 내지 100℃미만의 온도로 가열하는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인의 제조방법
9 9
제 1 항의 제조방법으로 제조된 폴리디메틸실록산(PDMS) 멤브레인
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 중앙대학교 산학협력단 원천기술개발사업 미세자극 조절이 가능한 정소 오가노이드 기반 융합 플랫폼 개발
2 교육부 중앙대학교 산학협력단 이공분야기초연구사업 3차)모낭세포를 이용한 모발 배양 마이크로 칩 개발