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다음 단계를 포함하는 결함의 크기가 조절된 CHA 제올라이트 분리막의 제조방법:(a) 유기구조유도제와 Si 및 Al 원료를 포함하는 제올라이트 성장용 합성용액에 CHA 입자 시드층이 증착된 지지체를 첨가하고 수열합성하는 단계;(b) 수열합성 후에 700~1200℃의 온도에서 10초~5분 동안 급속 소성하는 단계; 및(c) 450~550℃의 온도에서 가열하는 저온소성하는 단계
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제1항에 있어서, 상기 (c) 단계의 저속 소성단계는 12~40시간동안 0
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제1항에 있어서, 상기 Si/Al의 몰 비율이 20 내지 1000인 것을 특징으로 하는 CHA 제올라이트 분리막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 지지체는 알루미나, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리설폰, 폴리이미드, 실리카, 글래스 감마-알루미나, 멀라이트(mullite), 지르코니아(zirconia), 티타니아(titania), 이트리아(yttria), 세리아(ceria), 바나디아(vanadia), 실리콘, 스테인레스 스틸 및 카본으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 CHA 제올라이트 분리막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 유기구조유도제는 TMAdaOH (N,N,N-trimethyl adamantylammonium hydroxide), TMAdaBr (N,N,N-trimethyl adamantylammonium bromide), TMAdaF (N,N,N-trimethyl adamantylammonium fluoride), TMAdaCl (N,N,N-trimethyl adamantylammonium chloride), TMAdaI(N,N,N-trimethyl adamantylammonium iodide), TEAOH (tetraethylammonium hydroxide), TEABr (tetraethylammonium bromide), TEAF (tetraethylammonium fluoride), TEACl (tetraethylammonium chloride), TEAI (tetraethylammonium iodide) 및 사이클로헥실아민(cyclohexylamine)으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 CHA 제올라이트 분리막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 제올라이트 성장용 합성용액은 TMAdaOH: SiO2:H2O:NaOH:Al(OH)3의 몰비는 1~100: 100: 1000~20000: 1~100: 0~20의 몰비로 구성된 것을 특징으로 하는 CHA 제올라이트 분리막의 제조방법
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제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 결함의 크기가 조절된 CHA 제올라이트 분리막
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제7항의 CHA 제올라이트 분리막을 이용하여 CH4, N2, O2, C2H4, C2H6, C3H6 및 C3H8으로 구성된 군에서 선택되는 분자와 CO2를 포함하는 혼합물로부터 CO2를 분리하는 방법
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제8항에 있어서, 건조 조건에서는 30~200℃, 수분이 존재하는 조건에서는 30~200℃의 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는 CO2를 분리하는 방법
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