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정화 영역으로 유입되는 매질 내의 미세입자를 측정하여 미세입자측정데이터를 출력하는 유입미세입자측정부;상기 미세입자 측정데이터를 기초로 서로 다른 크기 분포의 미세입자들의 응집을 위한 서로 다른 주파수를 가지는 두 개 이상의 저주파음원들을 생성하여 저주파음파발생부로 출력하는 제어부; 및상기 미세입자 응집을 위한 서로 다른 두 개 이상의 저주파음원들에 대응하는 저주파음파들을 상기 정화 영역 내부로 방출하는 저주파음파발생부;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 미세입자 응집 제거 시스템
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제1항에 있어서,상기 정화 영역 내부의 매질에 포함되는 미세입자를 측정하여 미세입자 측정데이터를 생성하여 출력하는 정화영역미세입자측정부;를 포함하는 측정센서부를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 미세입자 응집 제거 시스템
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제1항에 있어서,상기 정화 영역에서 배출되는 매질에 포함되는 미세입자를 측정한 후 잔류 미세입자 농도를 가지는 미세입자 측정데이터를 생성하여 출력하는 잔류미세입자측정부;를 포함하는 측정센서부를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 미세입자 응집 제거 시스템
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제1항에 있어서,상기 정화 영역 내부의 상기 저주파음파들의 주파수 및 음압들을 검출한 후, 상기 제어부로 전송하는 저주파음파측정부;를 포함하는 측정센서부를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 미세입자 응집 제거 시스템
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제1항에 있어서, 상기 제어부는,미세입자 응집을 위한 미세입자 오염도별 주파수 및 음압 데이터를 저장하는 저장부;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 미세입자 응집 제거 시스템
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제1항에 있어서,상기 저주파음파들의 주파수는 20㎐ 내지 20㎑ 범위인 것을 특징으로 하는 미세입자 응집 제거 시스템
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제1항에 있어서,상기 저주파음파들의 음압은 0㏈ 내지 100㏈ 범위인 것을 특징으로 하는 미세입자 응집 제거 시스템
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제1항에 있어서, 상기 제어부는,상기 정화 영역 내부의 저주파음파들의 주파수 및 음압과 잔류미세입자 측정 정보를 수신하여 저주파음원들의 주파수 및 음압을 가변하여 출력하는 저주파음원 피드백 제어 조정을 수행하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 미세입자 응집 제거 시스템
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제1항에 있어서, 상기 저주파음파발생부는,상기 정화 영역 내에서 서로 대향하여 진행하는 상기 저주파음파들을 방출하도록 서로 대향하는 한 쌍 이상의 쌍으로 설치되는 액추에이터들을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 미세입자 응집 제거 시스템
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제1항에 있어서,상기 제어부에서 출력된 상기 저주파음원들을 증폭하여 출력하는 음원증폭부;를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 미세입자 응집 제거 시스템
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제1항에 있어서,상기 정화 영역 내부의 매질 내에서 상기 저주파음파발생부를 통해 출력된 저주파음파들에 의한 진동 충돌에 의해 응집된 미세입자 응집체를 포집한 후 상기 매질을 외부로 배출하는 배기부;를 더 포함하여 구성되는 특징으로 하는 미세입자 응집 제거 시스템
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