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전기방사를 이용하여 제1 기판 위에 다공성을 가지는 집합체를 형성하는 단계와, 상기 집합체에 소정 두께로 팔라듐을 증착하는 단계와, 상기 팔라듐이 증착된 상기 집합체를 제2 기판 상에 배치하는 단계와, 유기용매제를 이용하여 상기 제2 기판 상에 배치된 집합체를 녹임에 기초하여, 상기 집합체의 형상에 대응하되 팔라듐으로 구성되는 팔라듐 튜브 집합체를 형성하는 단계와, 상기 제2 기판 및 상기 팔라듐 튜브 집합체를 이용하여 팔라듐 기반 센서를 제조하는 단계를 포함하는 팔라듐 기반 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 집합체를 형성하는 단계는, 소정 크기의 개구부를 가지며 상기 집합체를 구성할 물질이 내부에 포함된 물체와 상기 제1 기판 사이에 소정 전압이 인가되도록 하여 상기 개구부로 상기 물질이 방출됨에 기초하여 상기 다공성을 가지는 집합체를 형성하는 단계를 포함하는팔라듐 기반 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 다공성을 가지는 집합체는, PVA(polyvinyl alcohol)로 구성되는팔라듐 기반 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 팔라듐을 증착하는 단계는,상기 집합체가 진공 챔버에 위치됨에 기초하여, 상기 진공 챔버 내에서 상기 팔라듐을 증착하는 단계를 포함하는 팔라듐 기반 센서 제조 방법
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5
제1항에 있어서,상기 다공성을 가지는 집합체는, 실 형태의 물질이 그룹화되어 내부에 공간이 포함됨에 기초하여 상기 다공성을 가지게 되고, 상기 실 형태의 물질의 단면은 원형인팔라듐 기반 센서 제조 방법
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6
제1항에 있어서,상기 팔라듐 튜브 집합체를 구성하는 팔라듐 튜브는, 하프파이프의 형태를 가지는 팔라듐 기반 센서 제조 방법
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7
제1항에 있어서, 상기 제1 기판은 소정 크기의 홀을 가지고, 상기 집합체의 적어도 일부는 상기 제1 기판의 홀 상부에서 공중부유된 채로 형성되는팔라듐 기반 센서 제조 방법
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8
전기방사를 이용하여 제1 기판 위에 다공성을 가지는 집합체를 형성하는 집합체 형성부와, 상기 집합체에 소정 두께로 팔라듐을 증착하는 증착부와, 상기 팔라듐이 증착된 상기 집합체를 센서를 구성할 제2 기판 상에 배치하는 배치부와, 유기용매제를 이용하여 상기 제2 기판 상에 배치된 집합체를 녹임에 기초하여, 상기 집합체의 형상에 대응하되 팔라듐으로 구성되는 팔라듐 튜브 집합체를 형성하는 튜브 형성부와, 상기 제2 기판 및 상기 팔라듐 튜브 집합체를 이용하여 팔라듐 기반 센서를 제조하는 센서 제조부를 포함하는 팔라듐 기반 센서 제조 장치
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제8항에 있어서,상기 집합체 형성부는, 소정 크기의 개구부를 가지며 상기 집합체를 구성할 물질이 내부에 포함된 물체와 상기 제1 기판 사이에 소정 전압이 인가되도록 하여 상기 개구부로 상기 물질이 방출됨에 기초하여 상기 다공성을 가지는 집합체를 형성하는 팔라듐 기반 센서 제조 장치
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10
제8항에 있어서,상기 다공성을 가지는 집합체는, PVA(polyvinyl alcohol)로 구성되는팔라듐 기반 센서 제조 장치
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제8항에 있어서,상기 증착부는, 상기 집합체가 진공 챔버에 위치됨에 기초하여, 상기 진공 챔버 내에서 상기 팔라듐을 증착하는 팔라듐 기반 센서 제조 장치
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제8항에 있어서,상기 다공성을 가지는 집합체는, 실 형태의 물질이 그룹화되어 내부에 공간이 포함됨에 기초하여 상기 다공성을 가지게 되고, 상기 실 형태의 물질의 단면은 원형인팔라듐 기반 센서 제조 장치
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제8항에 있어서,상기 팔라듐 튜브 집합체를 구성하는 팔라듐 튜브는, 하프파이프의 형태를 가지는 팔라듐 기반 센서 제조 장치
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14
제8항에 있어서, 상기 제1 기판은 소정 크기의 홀을 가지고, 상기 집합체 형성부는, 상기 제1 기판의 홀 상부에서 공중부유된 상태로 상기 집합체의 적어도 일부를 형성하는팔라듐 기반 센서 제조 장치
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기판과, 상기 기판 상에 배치되는 팔라듐 튜브 집합체를 포함하고, 상기 팔라듐 튜브 집합체는, 전기방사를 이용하여 형성된 다공성을 가지는 집합체 상에 소정 두께로 팔라듐이 증착되고, 상기 팔라듐이 증착된 집합체가 상기 기판에 배치됨에 기초하여, 상기 팔라듐이 증착된 집합체 중 집합체에 상응하는 부분이 유기용매제에 의해 녹여짐에 기초하여 형성되는팔라듐 기반 센서
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