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반응 챔버;상기 반응 챔버 내로 원료 기체를 공급하는 원료 기체 공급부;상기 원료 기체의 유동 방향을 따라 상기 반응 챔버 내로 레이저 빔이 입사되는 레이저 빔 입사부;상기 반응 챔버 내부의 상기 레이저 빔이 입사되는 측의 반대 측에 구비되어 상기 레이저 빔 입사부를 통해 입사된 레이저 빔이 충돌되는 레이저 빔 충돌부; 및상기 레이저 빔과 상기 반응 챔버의 내주면 사이에 상기 원료 기체의 유동 방향을 보조 기체가 유동할 수 있도록 상기 보조 기체를 공급하는 보조 기체 공급부를 포함하는, 나노입자 합성 장치
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제1항에 있어서,상기 레이저 빔의 경로와 수직하게 상기 반응 챔버 내를 가로지르도록 배치되는 배플로서, 상기 원료 기체의 유동 방향 기준 상기 원료 기체 공급부보다 하류에 배치되되 상기 레이저 빔 및 상기 원료 기체가 통과할 수 있는 관통홀을 구비하는 제1배플;을 더 포함하는, 나노입자 합성 장치
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제1항에 있어서,상기 보조 기체 공급부는 상기 원료 기체의 유동 방향 기준 상기 원료 기체 공급부보다 하류에 배치되되 상기 반응 챔버 내부의 중심을 향하여 상기 보조 기체를 공급하며,상기 나노입자 합성 장치는,상기 보조 기체가 공급되는 영역과 대응되는 위치에 상기 반응 챔버의 내주면과 공간을 형성할 수 있도록 배치되는 배플로서, 상기 레이저 빔 및 상기 원료 기체가 통과할 수 있는 관통홀을 구비하는 제2배플을 더 포함하는, 나노입자 합성 장치
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제1항에 있어서,상기 레이저 빔 충돌부의 외주면과 상기 반응 챔버의 내주면은 서로 이격되어 그 사이에 이격 공간이 형성된, 나노입자 합성 장치
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제1항에 있어서,상기 레이저 빔 충돌부는, 상기 입사된 레이저 빔이 흡수 또는 반사되는 코팅층을 적어도 일부 표면에 구비하는, 나노입자 합성 장치
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