맞춤기술찾기

이전대상기술

증착용 마스크 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2021001213
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본원은 일정한 패턴으로 패터닝된 나노 홀을 포함하는 제 1 층 및 상기 제 1 층 상에 형성되고, 마이크로 홀을 포함하는 제 2 층을 포함하는, 증착용 마스크에 관한 것이다:
Int. CL C23C 14/04 (2006.01.01) B29C 67/24 (2006.01.01)
CPC C23C 14/042(2013.01) B29C 67/24(2013.01)
출원번호/일자 1020190104164 (2019.08.26)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0024708 (2021.03.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.08.26)
심사청구항수 19

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김태일 경기도 수원시 장안구
2 탁동하 경상남도 양산시
3 정찬호 경기도 수원시 장안구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한선희 대한민국 서울시 강남구 논현로 *** 여산빌딩 *층 ***호(온유특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.08.26 수리 (Accepted) 1-1-2019-0871857-55
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.08.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2020.10.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2020-0167119-48
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.11.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0784271-52
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.01.07 수리 (Accepted) 1-1-2021-0019174-87
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2021.01.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-0019220-90
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
일정한 패턴으로 패터닝된 나노 홀을 포함하는 제 1 층; 및상기 제 1 층 상에 형성되고, 마이크로 홀을 포함하는 제 2 층;을 포함하는,증착용 마스크
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제 2 층 상에 형성되고, 상기 마이크로 홀보다 더 큰 크기의 매크로 홀을 포함하는 제 3 층을 추가 포함하는, 증착용 마스크
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 제 1 층, 상기 제 2 층 및 상기 제 3 층은 서로 상이한 폴리머를 포함하는 것인, 증착용 마스크
4 4
제 2 항에 있어서, 상기 제 1 층, 상기 제 2 층, 및 상기 제 3 층은 각각 독립적으로 광경화성 아크릴레이트(acrylate), PDMS(polydimethylsiloxane), 에폭시 수지(epoxy resin), 아미노 수지(amino resin), 페놀 수지(phenol resin), 폴리에스테르 수지(polyester resin), 폴리우레탄(polyurethane), 폴리우레아(polyuria), 베이클라이트(bakelite), 멜라민 수지(melamine resin), 벤족사진(Benzoxazine), 퓨란 수지(furan resin), 비닐 에스테르 수지(vinyl ester resin), 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 경화성 플라스틱을 포함하는 것인, 증착용 마스크
5 5
제 1 항에 있어서,상기 증착용 마스크는 상기 제 1 층의 나노 홀을 통해 증착 표면 상에 증착 물질을 증착하고, 상기 제 2 층은 상기 제 1 층을 지지하는 것인, 증착용 마스크
6 6
제 2 항에 있어서,상기 증착용 마스크는 상기 제 3 층은 상기 제 1 층 및 상기 제 2 층을 지지하는 것인, 증착용 마스크
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 층의 경도는 상기 제 1 층의 경도보다 큰 것인, 증착용 마스크
8 8
제 2 항에 있어서, 상기 제 3 층의 경도는 상기 제 2 층의 경도보다 크고, 상기 제 2 층의 경도는 상기 제 1 층의 경도보다 큰 것인, 증착용 마스크
9 9
제 1 항에 있어서,상기 제 1 층의 높이 및 상기 제 2 층의 높이의 비율은 1 : 10 내지 1 : 200 인 것인, 증착용 마스크
10 10
제 1 항에 있어서,상기 나노 홀의 종횡비는 1 : 1
11 11
제 1 항에 있어서,상기 나노 홀은 200 nm 내지 1 μm 의 직경을 갖는 것인, 증착용 마스크
12 12
제 1 항에 있어서,상기 마이크로 홀은 1 μm 내지 100 μm 의 직경을 갖는 것인, 증착용 마스크
13 13
제 2 항에 있어서,상기 매크로 홀은 1 μm 내지 1 cm 의 직경을 갖는 것인, 증착용 마스크
14 14
나노 홀 패턴을 가진 기판 상에 대향하여 배치된 버퍼층을 포함하는 제 1 결합체 상에 제 1 폴리머를 주입함으로써 나노 홀을 포함하는 제 1 층을 형성하는 단계; 마이크로 홀 패턴을 가진 기판 상에 대향하여 배치된 버퍼층을 포함하는 제 2 결합체 상에 제 2 폴리머를 주입함으로써 마이크로 홀을 포함하는 제 2 층을 형성하는 단계; 및상기 제 1 층 및 상기 제 2 층을 결합시키는 단계;를 포함하는,증착용 마스크의 제조 방법
15 15
제 14 항에 있어서, 상기 마이크로 홀 보다 더 큰 크기의 매크로 홀이 패터닝된 기판 상에 대향하여 배치된 버퍼층을 포함하는 제 3 결합체 상에 제 3 폴리머를 주입함으로써 매크로 홀을 포함하는 제 3 층을 형성하는 단계를 추가 포함하는 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
16 16
제 14 항에 있어서,상기 제 2 폴리머의 경도는 상기 제 1 폴리머의 경도보다 큰 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
17 17
제 15 항에 있어서, 상기 제 3 폴리머의 경도는 상기 제 2 폴리머의 경도보다 크고, 상기 제 2 폴리머의 경도는 상기 제 1 폴리머의 경도보다 큰 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
18 18
제 14 항에 있어서,상기 제 1 층을 형성하는 단계 또는 상기 제 2 층을 형성하는 단계는 빛 또는 열을 가하여 상기 제 1 폴리머 또는 상기 제 2 폴리머를 경화시키는 단계를 추가 포함하는 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
19 19
제 15 항에 있어서,상기 제 1 폴리머, 상기 제 2 폴리머 또는 상기 제 3 폴리머는 각각 독립적으로 광경화성 아크릴레이트(acrylate), PDMS(polydimethylsiloxane), 에폭시 수지(epoxy resin), 아미노 수지(amino resin), 페놀 수지(phenol resin), 폴리에스테르 수지(polyester resin), 폴리우레탄(polyurethane), 폴리우레아(polyuria), 베이클라이트(bakelite), 멜라민 수지(melamine resin), 벤족사진(Benzoxazine), 퓨란 수지(furan resin), 비닐 에스테르 수지(vinyl ester resin), 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 플라스틱을 포함하는 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
20 20
제 14 항에 있어서,상기 기판 및 상기 버퍼층은 각각 독립적으로 실리콘, 실리콘 카바이드, 게르마늄, 실리콘 게르마늄, 실리콘 탄화물, InAs, AlAs, GaAs, InP, GaN, InGaAs, InAlAs, GaSb, AlSb, AlP, GaP, ITO, FTO, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 성균관대학교 산학협력단 뇌과학원천기술개발사업 광통신을 모사한 새로운 방식의 다중신경자극용 마이크로 LED 소자 구현