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일정한 패턴으로 패터닝된 나노 홀을 포함하는 제 1 층; 및상기 제 1 층 상에 형성되고, 마이크로 홀을 포함하는 제 2 층;을 포함하는,증착용 마스크
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 층 상에 형성되고, 상기 마이크로 홀보다 더 큰 크기의 매크로 홀을 포함하는 제 3 층을 추가 포함하는, 증착용 마스크
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제 2 항에 있어서, 상기 제 1 층, 상기 제 2 층 및 상기 제 3 층은 서로 상이한 폴리머를 포함하는 것인, 증착용 마스크
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제 2 항에 있어서, 상기 제 1 층, 상기 제 2 층, 및 상기 제 3 층은 각각 독립적으로 광경화성 아크릴레이트(acrylate), PDMS(polydimethylsiloxane), 에폭시 수지(epoxy resin), 아미노 수지(amino resin), 페놀 수지(phenol resin), 폴리에스테르 수지(polyester resin), 폴리우레탄(polyurethane), 폴리우레아(polyuria), 베이클라이트(bakelite), 멜라민 수지(melamine resin), 벤족사진(Benzoxazine), 퓨란 수지(furan resin), 비닐 에스테르 수지(vinyl ester resin), 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 경화성 플라스틱을 포함하는 것인, 증착용 마스크
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제 1 항에 있어서,상기 증착용 마스크는 상기 제 1 층의 나노 홀을 통해 증착 표면 상에 증착 물질을 증착하고, 상기 제 2 층은 상기 제 1 층을 지지하는 것인, 증착용 마스크
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제 2 항에 있어서,상기 증착용 마스크는 상기 제 3 층은 상기 제 1 층 및 상기 제 2 층을 지지하는 것인, 증착용 마스크
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제 1 항에 있어서, 상기 제 2 층의 경도는 상기 제 1 층의 경도보다 큰 것인, 증착용 마스크
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제 2 항에 있어서, 상기 제 3 층의 경도는 상기 제 2 층의 경도보다 크고, 상기 제 2 층의 경도는 상기 제 1 층의 경도보다 큰 것인, 증착용 마스크
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9
제 1 항에 있어서,상기 제 1 층의 높이 및 상기 제 2 층의 높이의 비율은 1 : 10 내지 1 : 200 인 것인, 증착용 마스크
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10
제 1 항에 있어서,상기 나노 홀의 종횡비는 1 : 1
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제 1 항에 있어서,상기 나노 홀은 200 nm 내지 1 μm 의 직경을 갖는 것인, 증착용 마스크
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12
제 1 항에 있어서,상기 마이크로 홀은 1 μm 내지 100 μm 의 직경을 갖는 것인, 증착용 마스크
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13
제 2 항에 있어서,상기 매크로 홀은 1 μm 내지 1 cm 의 직경을 갖는 것인, 증착용 마스크
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나노 홀 패턴을 가진 기판 상에 대향하여 배치된 버퍼층을 포함하는 제 1 결합체 상에 제 1 폴리머를 주입함으로써 나노 홀을 포함하는 제 1 층을 형성하는 단계; 마이크로 홀 패턴을 가진 기판 상에 대향하여 배치된 버퍼층을 포함하는 제 2 결합체 상에 제 2 폴리머를 주입함으로써 마이크로 홀을 포함하는 제 2 층을 형성하는 단계; 및상기 제 1 층 및 상기 제 2 층을 결합시키는 단계;를 포함하는,증착용 마스크의 제조 방법
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제 14 항에 있어서, 상기 마이크로 홀 보다 더 큰 크기의 매크로 홀이 패터닝된 기판 상에 대향하여 배치된 버퍼층을 포함하는 제 3 결합체 상에 제 3 폴리머를 주입함으로써 매크로 홀을 포함하는 제 3 층을 형성하는 단계를 추가 포함하는 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
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제 14 항에 있어서,상기 제 2 폴리머의 경도는 상기 제 1 폴리머의 경도보다 큰 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
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제 15 항에 있어서, 상기 제 3 폴리머의 경도는 상기 제 2 폴리머의 경도보다 크고, 상기 제 2 폴리머의 경도는 상기 제 1 폴리머의 경도보다 큰 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
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18
제 14 항에 있어서,상기 제 1 층을 형성하는 단계 또는 상기 제 2 층을 형성하는 단계는 빛 또는 열을 가하여 상기 제 1 폴리머 또는 상기 제 2 폴리머를 경화시키는 단계를 추가 포함하는 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
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제 15 항에 있어서,상기 제 1 폴리머, 상기 제 2 폴리머 또는 상기 제 3 폴리머는 각각 독립적으로 광경화성 아크릴레이트(acrylate), PDMS(polydimethylsiloxane), 에폭시 수지(epoxy resin), 아미노 수지(amino resin), 페놀 수지(phenol resin), 폴리에스테르 수지(polyester resin), 폴리우레탄(polyurethane), 폴리우레아(polyuria), 베이클라이트(bakelite), 멜라민 수지(melamine resin), 벤족사진(Benzoxazine), 퓨란 수지(furan resin), 비닐 에스테르 수지(vinyl ester resin), 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 플라스틱을 포함하는 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
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20
제 14 항에 있어서,상기 기판 및 상기 버퍼층은 각각 독립적으로 실리콘, 실리콘 카바이드, 게르마늄, 실리콘 게르마늄, 실리콘 탄화물, InAs, AlAs, GaAs, InP, GaN, InGaAs, InAlAs, GaSb, AlSb, AlP, GaP, ITO, FTO, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 증착용 마스크의 제조 방법
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