1 |
1
교류 고전압이 인가되는 고전압전극; 및상기 고전압전극과의 사이에 방전갭을 형성하고 상기 고전압전극을 내장하여 접지되며 제1방향으로 길이를 가지는 하우징을 포함하며,상기 하우징은내부통로에 플라즈마 아크를 발생시키는 방전가스를 공급하는 제1가스 공급구,상기 제1방향에 교차하는 상기 제2방향으로 관통하여 과불화합물(PFCs)을 포함하는 대상가스를 상기 내부통로에 공급하는 제2가스 공급구,상기 고전압전극의 반대측에서 상기 내부통로보다 좁아지고 상기 제1방향 끝에 토출구를 가지며 상기 내부통로의 온도보다 높은 온도를 형성하는 고온영역통로, 및상기 고온영역통로에 연결되어 요소수를 공급하는 요소수 공급관을 포함하는 스크러버
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 요소수 공급관은공급되는 요소수가 상기 고온영역통로에서 열분해 및 가수분해 되도록 상기 고온영역통로에서 상기 플라즈마 아크가 고정되는 아크점 이전에 연결되는 스크러버
|
3 |
3
제1항에 있어서,상기 토출구는상기 방전갭에서 생성되어 상기 고전압전극의 끝에서 상기 고온영역통로로 진행되는 플라즈마 아크가 고정되는 아크점에 형성되는 스크러버
|
4 |
4
제1항에 있어서,상기 토출구는상기 고온영역통로를 경유하는 상기 대상가스에 포함된 상기 과불화합물의 분해 및 제거에 의하여 생성되는 화염이 토출되는 위치에 형성되는 스크러버
|
5 |
5
제1항에 있어서,상기 요소수 공급관은상기 고온영역통로에 요소수를 공급하는 내부관, 및상기 내부관을 감싸고 상기 내부관의 외주에 냉각수를 순환시키며 상기 고온영역통로에 설치되는 외부관을 포함하는 스크러버
|
6 |
6
제1항에 있어서,상기 요소수 공급관은상기 고온영역통로에서 상기 제2방향의 중심을 향하여 설치되는 스크러버
|
7 |
7
제1항에 있어서,상기 요소수 공급관은상기 고온영역통로의 상기 제2방향 중심에서 상기 제2방향에 교차하는 제3방향으로 설정된 거리(Δd)만큼 이격된 위치에서 상기 제2방향을 향하여 설치되는 스크러버
|
8 |
8
제1항에 있어서,상기 하우징은상기 고온영역통로의 주위에 원주 방향으로 형성되는 냉각수 챔버를 더 포함하고,상기 요소수 공급관은상기 냉각수 챔버에 원주 방향으로 설치되는 내측관, 및상기 내측관에서 상기 고온영역통로를 향하여 요소수를 분사하도록 형성되는 공급홀을 포함하는 스크러버
|
9 |
9
제8항에 있어서,상기 공급홀은 원주 방향을 따라 이격 배치되는 복수로 형성되고,상기 고온영역통로의 직경방향에서 설정된 각도의 경사진 방향으로 향하는 스크러버
|
10 |
10
제1항에 있어서,상기 고전압전극은상기 제1방향을 따라 형성되어 상기 내부통로에 연결되는 보조 요소수 공급관을 더 포함하는 스크러버
|
11 |
11
제10항에 있어서,상기 보조 요소수 공급관은상기 내부통로에 요소수를 보조 공급하는 보조 내부관, 및상기 보조 내부관을 감싸고 상기 보조 내부관의 외주에 냉각수를 순환시키며 상기 고전압전극에 설치되는 보조 외부관을 포함하는 스크러버
|
12 |
12
직류 양전압이 인가되는 고전압전극;상기 고전압전극과의 사이에 방전갭을 형성하고 상기 고전압전극을 내장하여 음전압이 인가되며 제1방향으로 길이를 가지는 제1하우징; 및상기 제1하우징에 상기 제1방향으로 연결되는 제2하우징을 포함하며,상기 제1하우징은제1내부통로에 플라즈마 아크를 형성하는 방전가스를 공급하는 제1가스 공급구,상기 고전압전극의 반대측에서 상기 제1내부통로보다 좁아지고 상기 제1방향 끝에 토출구를 가지는 상기 제1내부통로의 온도보다 높은 온도를 형성하는 고온영역통로, 및상기 고온영역통로에 연결되어 요소수를 공급하는 요소수 공급관을 포함하고,상기 제2하우징은상기 제1방향에 교차하는 상기 제2방향으로 관통하여 상기 고온영역통로에 연결되는 제2내부통로에 과불화합물(PFCs)을 포함하는 대상가스를 공급하는 제2가스 공급구를 포함하는 스크러버
|
13 |
13
제12항에 있어서,상기 요소수 공급관은공급되는 요소수가 상기 고온영역통로에서 열분해 및 가수분해 되도록 상기 플라즈마 아크가 고정되는 아크점 주위에 연결되는 스크러버
|
14 |
14
제12항에 있어서,상기 토출구는상기 방전갭에서 생성되어 상기 고전압전극의 끝에서 상기 고온영역통로로 진행되는 플라즈마 아크가 고정되는 아크점의 이후에 형성되는 스크러버
|
15 |
15
플라즈마 아크를 발생시켜 대상가스에 포함된 과불화합물(PFCs)을 제거하고, 과불화합물 제거시 발생되는 질소산화물을 제거하는 스크러버;상기 스크러버에 요소수를 공급하는 용해조;상기 용해조에 물을 공급하는 물라인; 및고체 요소를 저장하는 요소 저장 탱크로부터 요소량을 제어하여 상기 용해조에 공급하는 요소 피더를 포함하는 과불화합물과 질소산화물 제거 시스템
|
16 |
16
제15항에 있어서,상기 스크러버는하나 또는 복수로 형성되는 과불화합물과 질소산화물 제거 시스템
|
17 |
17
제16항에 있어서,상기 스크러버가 복수로 구비되는 경우,상기 요소 피더와 상기 용해조는각 스크러버에 독립적으로 연결되는과불화합물과 질소산화물 제거 시스템
|