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NIR 특정 파장 대역의 광 증폭을 위한 나노임프린트 기반 플라즈모닉 표면 구조 제조 방법

  • 기술번호 : KST2021001363
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노임프린트 기반의 단순 공정으로, 플라즈모닉 나노 구조 제작을 위한 특정 유전체 구조 위에 금속을 특정 면에만 증착시킬 수 있도록 한 NIR 특정 파장 대역의 광 증폭을 위한 나노임프린트 기반 플라즈모닉 표면 구조 제조 방법에 관한 것으로, 음각의 구조를 갖는 마스터 몰드의 표면에너지를 줄이기 위해 하이드록시기(hydrophobic)를 만드는 제 1 표면처리를 하는 단계;마스터 몰드의 음각 구조를 포함하는 전체 영역에 금속을 증착하는 단계;증착된 금속층을 접착 테이프를 이용하여 접착 테이프에 접착되는 금속층을 제거하고 음각 구조내에 일부 금속층을 남기는 단계;유전체 기판 위에 플라즈마처리를 하여 유전체 기판 위에 하이드록시기를 만드는 제 2 표면처리를 하고, NIR 특정 파장 대역의 광 증폭을 위하여 유전체 기판의 양각의 구조물 특정면에 나노임프린트 공정으로 상기 마스터 몰드에 남겨진 금속층을 증착하는 단계;를 포함하는 것이다.
Int. CL G01N 21/65 (2006.01.01) G03F 7/00 (2006.01.01) B82Y 40/00 (2017.01.01)
CPC G01N 21/658(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0017(2013.01) B82Y 40/00(2013.01)
출원번호/일자 1020190178675 (2019.12.30)
출원인 부산대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-2212483-0000 (2021.01.29)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20210204) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.12.30)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정명영 부산광역시 금정구
2 김준현 경기도 수원시 영통구
3 강지숙 부산광역시 금정구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오위환 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)
2 정기택 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)
3 나성곤 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 부산광역시 금정구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2019.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2019-1358445-37
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2020.10.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2020.12.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0016112-67
4 등록결정서
Decision to grant		 2021.01.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0070999-14
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번호 청구항
1 1
음각의 구조를 갖는 마스터 몰드의 표면에너지를 줄이기 위해 하이드록시기(hydrophobic)를 만드는 제 1 표면처리를 하는 단계;마스터 몰드의 음각 구조를 포함하는 전체 영역에 금속을 증착하는 단계;증착된 금속층을 접착 테이프를 이용하여 접착 테이프에 접착되는 금속층을 제거하고 음각 구조내에 일부 금속층을 남기는 단계;유전체 기판 위에 플라즈마처리를 하여 유전체 기판 위에 하이드록시기를 만드는 제 2 표면처리를 하고, NIR 특정 파장 대역의 광 증폭을 위하여 유전체 기판의 양각의 구조물 특정면에 나노임프린트 공정으로 상기 마스터 몰드에 남겨진 금속층을 증착하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 NIR 특정 파장 대역의 광 증폭을 위한 나노임프린트 기반 플라즈모닉 표면 구조 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 마스터 몰드의 음각 구조를 포함하는 전체 영역에 금속을 증착하는 단계에서,금속층을 전자빔 증착(e-beam evaporation)을 통해 증착하는 것을 특징으로 하는 NIR 특정 파장 대역의 광 증폭을 위한 나노임프린트 기반 플라즈모닉 표면 구조 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 나노임프린트 공정으로 금속층을 증착하는 단계에서 제 2 표면처리에 의해,금속과 하이드록시기가 작용해 표면에너지가 증가하여 음각의 마스터 몰드 안에 존재하는 금속이 정확히 유전체 기판에 붙어 표면에너지가 높은 유전체 기판 위로 디몰딩(demolding) 될 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 NIR 특정 파장 대역의 광 증폭을 위한 나노임프린트 기반 플라즈모닉 표면 구조 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 제 1,2 표면 처리에 의해,나노임프린트 공정으로 증착되는 금속과 유전체 기판의 표면에너지를, Si 마스터 몰드 및 마스터 몰드 남겨진 금속의 표면에너지보다 높게 조절하여 나노임프린트 공정을 이용해 압력과 열을 주어 유전체 기판의 나노구조 위에 금속을 증착시키는 것을 특징으로 하는 NIR 특정 파장 대역의 광 증폭을 위한 나노임프린트 기반 플라즈모닉 표면 구조 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 나노임프린트 공정으로 금속층을 증착하는 단계에서,유전체 기판을 유리전이온도 이상 그리고 녹는점 이하에서 마스터 몰드에 온도를 가하고 압력을 주어 공정을 진행하고,마스터 몰드안의 금속과 접착이 되게 한 후 유리전이 온도 이하로 온도를 낮추어 디몰딩(demolding) 과정을 거쳐 유전체 기판의 양각의 구조물 특정면에 상기 마스터 몰드에 남겨진 금속층을 부착하는 것을 특징으로 하는 NIR 특정 파장 대역의 광 증폭을 위한 나노임프린트 기반 플라즈모닉 표면 구조 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 나노임프린트 공정으로 금속층을 증착하는 단계에서,유전체 기판은 PMMA(Poly (methyl methacrylate)) 폴리머를 사용하고,유리전이 온도 이상 그리고 녹는점 이하의 온도인 145℃ 온도에 압력을 40bar를 가해주어 나노 구조를 제작한 후 디몰딩은 75℃에서 하여 유전체 기판 위에 특정 면에만 증착이 되어있는 플라즈모닉 구조를 제작하는 것을 특징으로 하는 NIR 특정 파장 대역의 광 증폭을 위한 나노임프린트 기반 플라즈모닉 표면 구조 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 나노임프린트 공정 이후에 산 용액을 처리를 하여 남겨진 금속을 제거하여 마스터 몰드를 재사용 하는 것을 특징으로 하는 NIR 특정 파장 대역의 광 증폭을 위한 나노임프린트 기반 플라즈모닉 표면 구조 제조 방법
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1 과학기술정보통신부 부산대학교 중견연구자지원사업 뇌 영상 광 이미징 시스템용 고감도 공간분해능 향상 연구