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회전구동이 가능한 기판부;상기 기판부와 이격 배치되며 전후, 좌우 및 상하 왕복이동이 가능한 노즐부; 상기 노즐부로 산화그래핀 적층용 플라즈마를 방출할 수 있도록 불활성가스 및 카본소스가스를 공급하는 가스공급부; 상기 가스공급부에서 상기 노즐부로 상기 불활성가스 및 상기 카본소스가스를 유입 및 통과 시켜주는 단일 또는 복수개의 가스관; 및상기 노즐부의 외부에서 상기 노즐부와 전기적으로 연결되며 고유 공진 주파수에서 대기압 플라즈마를 형성 및 활성화시키는 공진기;를 포함하는 산화그래핀 적층장치
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제1항에 있어서,상기 노즐부에서 배출되는 플라즈마의 강도에 따라 상기 기판부의 회전구동 및 상기 노즐부의 이동방향을 전환시키는 유효 이동거리 측정부 및 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 산화그래핀 적층장치
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제1항에 있어서,상기 공진기의 주파수를500 MHz 내지 1000 MHz로 인가시키는 것을 특징으로 하는 산화그래핀 적층장치
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기판부 상에 기판을 준비하는 단계; 가스공급부에서 가스관을 통해 공진기로 불활성가스를 공급시켜 상기 공진기에서 상기 불활성가스를 이용해 대기압 플라즈마를 형성 및 활성화시키는 단계; 및상기 플라즈마가 안정화되면 상기 가스공급부에서 가스관을 통해 카본소스가스를 공급 및 상기 노즐부에서 상기 플라즈마와 상기 카본소스가스를 외부로 방출시킴으로써 상기 기판 상에 상기 산화그래핀을 적층시키는 단계;를 포함하는 산화그래핀 적층방법
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제4항에 있어서, 상기 불활성 가스는 헬륨(He), 질소(N) 또는 아르곤(Ar) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 산화그래핀 적층방법
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제4항에 있어서, 상기 카본소스 가스의 양은 10 sccm 내지 50 sccm의 속도로 제공되는 것을 특징으로 하는 산화그래핀 적층방법
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제4항에 있어서, 상기 산화그래핀을 적층시키는 단계에서, 상기 기판부와 상기 노즐부의 이격거리는 5 mm 내지 10 mm로 설정하는 것을 특징으로 하는 산화그래핀 적층방법
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제4항에 있어서, 상기 산화그래핀을 적층시키는 단계는, 상기 노즐부에서 배출되는 상기 플라즈마의 강도를 제어하여 상기 기판부의 회전구동 및 상기 노즐부의 이동방향을 제어하는 것을 특징으로 하는 산화그래핀 적층방법
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