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나노기공 및 메조기공을 갖는 메조포러스 제올라이트; 및상기 제올라이트 표면에 도입 또는 치환된 2종 이상으로 이루어진 다수의 양이온;을 포함하는 메틸클로라드 생성용 제올라이트 기반 불균일계 촉매
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제 1 항에 있어서,상기 양이온은 H+, Li+, K+, Na+, Cs+, Mn2+, Fe2+, Co2+, Ni2+, Cu2+, Zn2+ 으로 구성된 그룹에서 선택되는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 메틸클로라드 생성용 제올라이트 기반 불균일계 촉매
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제 1 항에 있어서, 상기 제올라이트는 그 미세기공 및 메조기공을 이루는 기공골격구조가 FAU, MFI, BEA, MTW로 구성된 그룹에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 메틸클로라드 생성용 제올라이트 기반 불균일계 촉매
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제 3 항에 있어서, 상기 기공골격구조 내에서 실리콘과 알루미늄의 비율(Si/Al ratio)이 10 ~ 30의 값을 갖는 것을 특징으로 하는 메틸클로라드 생성용 제올라이트 기반 불균일계 촉매
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제 1 항에 있어서, 상기 제올라이트는 비표면적이 300 ~ 1000 m2/g이고, 상기 미세기공의 부피는 0
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제 1 항에 있어서, 상기 촉매는 다수의 촉매가 압축되어 형성된 펠렛인 것을 특징으로 하는 메틸클로라드 생성용 제올라이트 기반 불균일계 촉매
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미세기공 및 메조기공을 갖는 메조포러스 제올라이트를 준비하는 단계;상기 준비된 제올라이트 표면에 양이온을 도입 또는 치환시키는 도입단계; 및상기 양이온이 도입 또는 치환된 제올라이트를 분리 및 건조시켜 소성하는 후처리단계;를 포함하는 메틸클로라드 생성용 제올라이트 기반 불균일계 촉매 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 후처리된 분말상 제올라이트를 압축하는 단계; 상기 압축된 제올라이트를 분쇄하여 원하는 크기의 펠렛으로 분쇄하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 메틸클로라드 생성용 제올라이트 기반 불균일계 촉매 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 도입단계는 상기 준비된 제올라이트를 상기 양이온이 포함된 수용액에 첨가한 후 교반하여 수행되는 것을 특징으로 하는 메틸클로라드 생성용 제올라이트 기반 불균일계 촉매 제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 수용액에 포함된 양이온은 H+, Li+, Na+, K+, Cs+, Mn2+, Fe2+, Co2+, Ni2+, Cu2+, Zn2+ 으로 구성된 그룹에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 메틸클로라드 생성용 제올라이트 기반 불균일계 촉매 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 준비된 제올라이트는 그 미세기공 및 메조기공을 이루는 기공골격구조가 FAU, MFI, BEA, MTW로 구성된 그룹에서 선택되는 어느 하나 이상이고, 상기 기공골격구조 내에서 실리콘과 알루미늄의 비율(Si/Al ratio)이 10 ~ 30의 값을 갖는 것을 특징으로 하는 메틸클로라드 생성용 제올라이트 기반 불균일계 촉매 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 준비된 제올라이트는 비표면적이 300 ~ 1000 m2/g이고, 상기 미세기공의 부피는 0
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기상 반응기의 고정층에 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항의 촉매 또는 제 7 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 촉매를 안착시키는 단계;상기 기상 반응기에 일정 유속 및 일정온도를 갖도록 질소 및 수소 기체를 순차적으로 투입하여 상기 안착된 촉매를 전처리하는 촉매전처리단계; 및상기 촉매전처리단계를 거친 기상 반응기 내부를 일정한 온도로 유지하면서 메탄과 염소를 일정 유속비로 상기 기상 반응기 내부로 유입시켜 상기 메탄의 염소화 반응을 진행시켜 메틸클로라이드를 생성시키는 단계;를 포함하는 제올라이트 기반 불균일계 촉매를 이용한 메틸클로라드 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 일정 유속비는 상기 메탄 및 염소의 유속 비가 1:0
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제 13 항에 있어서,상기 메탄의 염소화 반응은 상압 및 250 ~ 400℃의 온도조건에서 수행되는 것을 특징으로 하는 제올라이트 기반 불균일계 촉매를 이용한 메틸클로라드 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 메탄의 염소화 반응을 통한 상기 메틸클로라이드의 수율은 11% 내지 25%인 것을 특징으로 하는 제올라이트 기반 불균일계 촉매를 이용한 메틸클로라드 제조방법
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