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제 1 도전형 불순물을 포함하는 제 1 도전형 실리콘 기판을 제공하는 제 1 도전형 실리콘 기판 제공 단계;상기 제 1 도전형 실리콘 기판의 상면에 제 2 도전형 불순물을 포함하는 제 2 도전형 실리콘층을 형성하는 제 2 도전형 실리콘층 형성 단계;상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면을 산화 처리하여 전면 산화층을 형성하는 전면(前面) 산화층 형성 단계;상기 전면 산화층의 상부에 전면(前面) 반사방지막을 형성하는 단계와 상기 제 1 도전형 실리콘 기판의 하면을 산화 처리하여 후면 산화층을 형성하는 후면(後面) 산화층 형성 단계;상기 후면 산화층의 하부 일부 영역에 제 1 전이 금속 산화물을 증착시켜 터널링을 통해 제 1 전하가 통과할 수 있는 제 1 전하 선택 박막을 형성하는 제 1 전하 선택 박막 형성 단계;상기 후면 산화층의 하부에서 상기 제 1 전하 선택 박막이 형성되지 않은 영역에 제 2 전이 금속 산화물을 증착시켜 터널링을 통해 제 2 전하가 통과할 수 있는 제 2 전하 선택 박막을 형성하는 제 2 전하 선택 박막 형성 단계;상기 제 1 및 제 2 전하 선택 박막의 하부에 제 1 및 제 2 후면 투명 전극을 각각 형성하는 단계; 및 상기 제 1 및 제 2 후면 투명 전극의 하부에 제 1 및 제 2 후면 금속 전극을 각각 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 후면 전극 전하 선택 접합형 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 도전형 실리콘 기판은 n형 실리콘 기판인 것을 특징으로 하는 후면 전극 전하 선택 접합형 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 전면 산화층 형성 단계는 상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면을 SC-1 솔루션, SC-2 솔루션, 질산, 염산, 황산, 인산 또는 불산으로 습식 산화 처리하여 형성하는 것을 특징으로 하는 후면 전극 전하 선택 접합형 태양 전지 제조 방법
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제 3 항에 있어서,상기 전면 산화층은 0
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제 1 항에 있어서,상기 후면 산화층 형성 단계는 상기 제 1 도전형 실리콘 기판의 하면을 SC-1 솔루션, SC-2 솔루션, 질산, 염산, 황산, 인산 또는 불산으로 습식 산화 처리하여 형성하는 것을 특징으로 하는 후면 전극 전하 선택 접합형 태양 전지 제조 방법
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6
제 5 항에 있어서,상기 후면 산화층은 0
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 전하 선택 박막 형성 단계는 MoOx의 원소를 포함하는 프리커서로부터 생성되는 Mo(CO)6 소스 가스와 수증기(H2O) 또는 오존(O3)을 포함하는 산화제를 교대로 공급하는 원자층 증착 공정으로 진행되고,상기 원자층 증착 공정은 상기 오존과 상기 수증기의 공급 횟수를 조절하여 상기 MoOx 중 x값을 조절하는 것을 특징으로 하는 후면 전극 전하 선택 접합형 태양 전지 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 제 1 전하 선택 박막은 2 ∼ 15nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 후면 전극 전하 선택 접합형 태양 전지 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 제 1 전이 금속 산화물은 MoOx, NiOx, VOx 및 WOx 중에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 후면 전극 전하 선택 접합형 태양 전지 제조 방법
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10
제 1 항에 있어서,상기 제 2 전하 선택 박막 형성 단계는 TiO2의 원소를 포함하는 프리커서로부터 생성되는 Titanium isopropoxide (TTIP), tetrakis-dimethyl-amidotitanium (TDMAT), TiCl4 소스 가스와 수증기(H2O) 또는 오존(O3)을 포함하는 산화제를 교대로 공급하는 원자층 증착 공정으로 진행되는 것을 특징으로 하는 후면 전극 전하 선택 접합형 태양 전지 제조 방법
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11
제 10 항에 있어서,상기 제 2 전하 선택 박막은 2 ∼ 15nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 후면 전극 전하 선택 접합형 태양 전지 제조 방법
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12
제 11 항에 있어서,상기 제 2 전이 금속 산화물은 Ta2O5, TiO2 및 SrTiO3 중에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 후면 전극 전하 선택 접합형 태양 전지 제조 방법
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