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메모리 소자

  • 기술번호 : KST2021001606
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 실시예에 따른 메모리 소자는 게이트 전극, 상기 게이트 전극 상의 제1 절연막, 상기 제1 절연막 상에 서로 이격되어 배치된 제1 도전 패턴 및 제2 도전 패턴, 상기 제1 절연막 상에 배치되며, 상기 제1 도전 패턴 및 상기 제2 도전 패턴을 연결하는 채널 패턴, 상기 채널 패턴과 상기 제1 절연막의 사이에 배치되며, 상기 제1 절연막에 비해 높은 수소 원자 함량비(atomic %)를 갖는 계면층을 포함할 수 있다.
Int. CL H01L 49/00 (2006.01.01) H01L 27/24 (2006.01.01) H01L 29/792 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020200049565 (2020.04.23)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0028064 (2021.03.11) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020190109058   |   2019.09.03
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.12.11)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임정욱 대전광역시 유성구
2 윤선진 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2020-0420734-17
2 [심사청구]심사청구서·우선심사신청서
2020.12.11 수리 (Accepted) 1-1-2020-1345039-23
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.02.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
게이트 전극;상기 게이트 전극 상의 제1 절연막;상기 제1 절연막 상에 서로 이격되어 배치된 제1 도전 패턴 및 제2 도전 패턴;상기 제1 절연막 상에 배치되며, 상기 제1 도전 패턴 및 상기 제2 도전 패턴을 연결하는 채널 패턴;상기 채널 패턴과 상기 제1 절연막의 사이에 배치되며, 상기 제1 절연막에 비해 높은 수소 원자 함량비(atomic %)를 갖는 계면층을 포함하는 메모리 소자
2 2
제1 항에 있어서,상기 제1 절연막 및 상기 채널 패턴은 상기 계면층을 사이에 두고 서로 이격되는 메모리 소자
3 3
제1 항에 있어서,상기 계면층은 상기 제1 절연막 및 상기 채널 패턴에 비해 작은 두께를 갖는 메모리 소자
4 4
제1 항에 있어서,상기 제1 절연막과 상기 게이트 전극 사이의 제2 절연막을 더 포함하고,상기 제1 절연막과 상기 제2 절연막과 서로 다른 산소 원자 함량비(atomic %)를 갖는 메모리 소자
5 5
제1 항에 있어서,상기 계면층은 상기 제1 절연막의 측면의 적어도 일부를 덮는 메모리 소자
6 6
제1 항에 있어서,상기 게이트 전극과 전기적으로 연결되는 펄스 제너레이터를 더 포함하는 메모리 소자
7 7
서로 이격된 제1 게이트 전극 및 제2 게이트 전극;상기 제1 게이트 전극 상의 제1 채널 패턴;상기 제2 게이트 전극 상의 제2 채널 패턴;상기 제1 게이트 전극과 제1 채널 패턴의 사이 및 상기 제2 게이트 전극과 제2 채널 패턴 사이의 제1 절연막;상기 제1 절연막 상에 서로 이격되어 배치된 제1 도전 패턴 및 제2 도전 패턴을 포함하되,상기 제1 채널 패턴 및 상기 제2 채널 패턴의 각각은 상기 제1 도전 패턴과 상기 제2 도전 패턴을 연결하는 메모리 소자
8 8
제7 항에 있어서,상기 제1 채널 패턴과 상기 제1 절연막 사이의 제1 계면층 및 상기 제2 채널 패턴과 상기 제2 절연막 사이의 제2 계면층을 더 포함하는 메모리 소자
9 9
제7 항에 있어서,상기 제1 계면층 및 상기 제2 계면층은 상기 제1 절연막에 비해 높은 수소 원자 함량비(atomic %)를 갖는 메모리 소자
10 10
제7 항에 있어서,상기 제1 절연막과 상기 제1 및 제2 게이트 전극 사이의 제2 절연막을 더 포함하고,상기 제1 절연막 및 상기 제2 절연막은 서로 다른 산소 원자 함량비(atomic %)를 갖는 메모리 소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국전자통신연구원(ETRI) ETRI연구개발지원사업 차세대 신기능 스마트디바이스 플랫폼을 위한 대면적 이차원소재 및 소자 원천기술 개발
2 산업통상자원부 한국전자통신연구원(ETRI) 에너지기술개발사업 양면발전 효율 8.5 % 및 투과도 20%를 갖고 다양한 색상 구현이 가능한 박막 실리콘 기반의 완전투광형 투명 태양전지 기술 개발