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레이저를 조사하는 레이저광원부;온도 또는 농도 측정을 위한 기체가 배치되며 상기 레이저광원부에서 조사되는 레이저가 통과하는 챔버;상기 챔버를 통과한 레이저를 집광하는 광검출부;상기 광검출부에서 검출된 레이저를 이용하여 분석을 수행하는 프로세서부;를 포함하는 기체 검출 장치에 있어서,상기 챔버의 일면에 위치된 적어도 하나의 음파발생부;상기 적어도 하나의 음파발생부와 대면하는 챔버의 타면에 위치된 적어도 하나의 반사기;를 포함하고, 상기 음파발생부는 상기 챔버에 다차원의 음향 정상파를 만들도록 구동되는 기체 검출 장치에 있어서,상기 챔버에 있어서 상기 기체가 흐르는 방향을 Z축으로 가정할 때,상기 레이저광원부, 상기 광검출부는 X축 또는 X축과 평행한 축에 배치되며,상기 음파발생부, 상기 반사기는 Y축 또는 Y축과 평행한 축에 배치되는 기체 검출 장치
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제1항에 있어서,상기 레이저광원부, 상기 광검출부, 및 상기 프로세서부는 파장가변형 다이오드레이저 흡수분광법((Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy)에 의해서 기체의 농도 또는 온도를 분석하는 것인 기체 검출 장치
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제1항에 있어서,상기 챔버는 비산 분체에 의해서 상기 레이저광원부로부터 조사되는 레이저가 50% 이상 산란 또는 회절되는 챔버인 기체 검출 장치
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제1항에 있어서,상기 챔버는 시멘트 제조 공정 중 배가스가 통과되는 챔버인 기체 검출 장치
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제1항에 있어서,상기 레이저광원부에서 조사된 레이저를 반사시켜 상기 반사되는 레이저의 궤적이 상기 챔버를 1회 이상 지나갈 수 있게 배치되는 반사부를 추가로 포함하는 기체 검출 장치
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삭제
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제1항에 있어서,상기 레이저광원부, 상기 광검출부, 상기 음파발생부, 상기 반사기는 모두 동일평면에 배치되는 기체 검출 장치
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제1항에 있어서,상기 레이저광원부 및 상기 광검출부는 상기 음파발생부 및 상기 반사기에 발생하는 음파를 포함하는 진동에 영향이 없도록 별도의 지지대에 고정되는 기체 검출 장치
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제8항에 있어서,상기 레이저광원부 및 상기 광검출부에는 진동을 감쇄할 수 있는 댐퍼가 추가된 기체 검출 장치
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제1항에 있어서,상기 음파발생부는 압전 트랜스듀서를 포함하는 기체 검출 장치
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제1항 내지 제5항, 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 기체 검출 장치에 의해서 챔버 내의 기체의 온도 또는 농도를 측정하는 방법
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