| 1 |
1
스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치로서,변조된 레이저 광을 출력하는 광원부;상기 레이저 광을 반사하고 서로 직교하는 양 축을 가지는 미러; 및상기 미러의 구동 신호 및 상기 레이저 광의 변조 신호를 생성하여 상기 광원부 및 상기 미러에 송신하는 제어부;를 포함하되,상기 제어부가 상기 변조 신호의 주파수를 제어하여, 스트라이프 패턴 구조광이 생성되는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 미러는 멤스(MEMS:micro-electro mechanical system) 미러인 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 제어부는,상기 멤스 미러가 리사쥬 스캐닝(Lissajous scanning)을 실행하도록, 상기 멤스 미러의 양 축의 구동 신호를 각각 정현파로 생성하여 상기 멤스 미러에 송신하는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 4 |
4
제2항에 있어서, 상기 제어부는,상기 멤스 미러의 양 축 중 한 축을 선택하고,상기 변조 신호의 주파수는, 상기 선택된 한 축의 구동 신호 주파수만의 N배가 되도록 생성하며, 상기 N은 자연수인 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 5 |
5
제4항에 있어서,상기 제어부는,상기 멤스 미러의 양 축의 공명 피크로부터 3dB만큼의 대역폭 안에서 상기 구동 신호의 주파수를 선택하여 상기 구동 신호를 생성하고 상기 멤스 미러에 송신하는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 6 |
6
제4항에 있어서,상기 제어부는,사용자가 원하는 스트라이프 패턴 구조광의 패턴 방향에 대응되도록 상기 멤스 미러의 양 축 중 한 축을 선택하는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 7 |
7
제4항에 있어서,상기 제어부는,상기 N을 조절하여 상기 스트라이프 패턴 구조광의 패턴 밀도를 가변시키는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 8 |
8
제4항에 있어서,상기 제어부는,상기 멤스 미러의 양 축 중 선택되지 않은 축의 구동 신호 위상을 고정하고, 상기 선택된 한 축의 구동 신호 위상만을 조절하여 상기 스트라이프 패턴 구조광의 패턴 간격을 가변시키는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 9 |
9
제4항에 있어서,상기 제어부는, 상기 멤스 미러 양 축의 상기 구동 신호의 진폭을 조절하여 상기 스트라이프 패턴 구조광의 관측 시야를 가변시키는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 10 |
10
제4항에 있어서,상기 제어부는,상기 광원부에 ON/OFF 방식의 구형파 변조 신호를 송신하여 상기 레이저 광을 변조시키는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 광원부는 상기 레이저 광을 변조시키기 위해 상기 멤스 미러로 향하는 레이저의 일측에 광변조 소자를 더 포함하고, 상기 제어부는 상기 광변조 소자에 상기 변조 신호를 송신하는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 12 |
12
제4항에 있어서,상기 멤스 미러는, 서로 직교하는 양 축을 기준으로 회전 진동하고 제1축의 회전 진동에 대한 품질인자(Q-factor)가 제2축의 회전 진동에 대한 품질인자보다 더 낮게 설계되는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 장치
|
| 13 |
13
가변 구조광 생성 장치를 이용하여 사용자가 원하는 패턴 방향, 패턴 밀도 및 관측 시야를 가지는 스트라이프 패턴 구조광을 생성하는 가변 구조광 생성 방법으로서,제어부가 멤스 미러 양 축의 공명 피크로부터 3dB 만큼의 대역폭 안에서 상기 멤스 미러 양 축의 구동 신호를 생성하는 단계;상기 제어부가 상기 멤스 미러의 양 축 중 한 축을 선택하고, 레이저 광을 변조시키는 변조 신호 주파수가 상기 선택된 한 축의 구동 신호 주파수만의 N배가 되도록 상기 레이저 광의 변조 신호를 생성하는 단계;상기 제어부가 상기 구동 신호 및 상기 변조 신호를 각각 상기 멤스 미러 및 광원부에 송신하는 단계; 및상기 구동 신호에 따라 리사쥬 스캐닝을 실행하는 상기 멤스 미러가 상기 변조 신호에 의해 변조된 레이저 광을 반사하여 상기 스트라이프 패턴 구조광을 생성하는 단계;를 포함하되,상기 N은 자연수인 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 방법
|
| 14 |
14
제13항에 있어서,상기 멤스 미러 양 축의 구동 신호를 생성하는 단계는,상기 스트라이프 패턴 구조광의 패턴 간격을 가변시키기 위해, 상기 제어부가 상기 멤스 미러의 양 축 중 선택되지 않은 축의 구동 신호 위상을 고정하고, 상기 선택된 축의 구동 신호 위상만을 조절하는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 방법
|
| 15 |
15
제13항에 있어서,상기 멤스 미러 양 축의 구동 신호를 생성하는 단계는,상기 사용자가 원하는 관측 시야를 가지는 스트라이프 패턴 구조광을 생성시키기 위해, 상기 제어부가 상기 멤스 미러의 양 축 구동 신호의 진폭을 조절하는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 방법
|
| 16 |
16
제13항에 있어서,상기 레이저 광의 변조 신호를 생성하는 단계는,상기 사용자가 원하는 패턴 방향에 대응되도록 상기 제어부가 상기 멤스 미러의 양 축 중 한 축을 선택하는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 방법
|
| 17 |
17
제13항에 있어서,상기 레이저 광의 변조 신호를 생성하는 단계는,상기 사용자가 원하는 패턴 밀도를 가지는 스트라이프 패턴 구조광을 생성시키기 위해, 상기 제어부가 상기 N을 조절하여 상기 변조 신호를 생성시키는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 방법
|
| 18 |
18
제13항에 있어서,상기 변조 신호는, 상기 광원부에 송신되는 ON/OFF 방식의 구형파 변조 신호인 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 방법
|
| 19 |
19
제13항에 있어서,상기 광원부는 레이저 광을 변조시키기 위해 상기 멤스 미러로 향하는 레이저의 일측에 광변조 소자를 더 포함하고, 상기 광변조 소자에 상기 변조 신호가 송신되는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 방법
|
| 20 |
20
제13항에 있어서,상기 멤스 미러는, 서로 직교하는 양 축을 기준으로 회전 진동하고 제1축의 회전 진동에 대한 품질인자(Q-factor)가 제2축의 회전 진동에 대한 품질인자보다 더 낮게 설계되는 것을 특징으로 하는, 스트라이프 패턴을 가지는 가변 구조광 생성 방법
|
