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a) 베이스 합성 고무 및 게스트 천연 고무를 혼합하여 상호침투 고분자 망상구조 (Interpenetrating polymer network, IPN)의 유연기질을 제조하는 단계; b) 상기 유연기질을 신장변형하는 단계; c) 상기 신장변형된 유연기질을 가교하는 단계; d) 상기 가교된 유연기질 상에 전극층을 형성하는 단계; 및e) 상기 전극층이 형성된 유연기질의 신장변형을 제거하는 단계;를 포함하는 주름전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 게스트 천연 고무는 에폭시화 천연 고무인 주름전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 a) 단계는 게스트 천연 고무 용액에 베이스 합성 고무를 팽윤시킨 후 용매를 증발시켜 유연기질을 제조하는 것인 주름전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 d) 단계에서 상기 전극층은 전기방사법에 의해 제조되는 주름전극의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 d) 단계는 d-1) 전도성 물질 및 고분자를 포함하는 전기방사 용액을 제조하는 단계; d-2) 상기 전기방사 용액을 기판에 방사하여 예비 전극층을 형성하는 단계; d-3) 상기 기판에 형성된 예비 전극층을 소결하여 전극층을 제조하는 단계; 및d-4) 상기 전극층을 상기 유연기질에 전사하여 전극층을 형성하는 단계;를 포함하는 주름전극의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 d-3) 단계의 소결과정은 열소결로에 의해 100 내지 1000℃에서 10분 내지 120분 동안 수행하는 주름전극의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 전기방사 용액은 전도성 물질 100 중량부 기준, 고분자 물질 10 내지 50 중량부를 포함하는 주름전극의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 전도성 물질은 전도성 금속, 카본블랙, 탄소나노튜브, 그래핀 및 그라파이트로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 주름전극의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 전극층은 평균두께 1 내지 30㎛인 주름전극의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 게스트 천연 고무 100 중량부에 대하여, 광개시제 1 내지 10 중량부 및 광가교제 2 내지 10 중량부를 포함하는 주름전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 b) 단계에서 신장변형은 일축 신장변형 후 고정시키는 단계를 포함하는 주름전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 c) 단계는 광조사에 의해 가교가 이루어지는 주름전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 e) 단계 후, 전극층이 형성된 유연기질을 안정화하는 단계를 더 포함하는 주름전극의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 안정화는 상온에서 10 내지 48시간 동안 방치하는 것인 주름전극의 제조방법
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평균두께 1 내지 30 ㎛의 전극층이 형성된 유연기질을 포함하며, 상기 유연기질은 베이스 합성 고무 및 게스트 천연 고무가 상호침투 고분자 망상구조를 가지는 주름전극
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제15항에 있어서, 상기 주름전극은 평균 높이 5 내지 50 ㎛ 및 평균 진폭 10 내지 100 ㎛의 주름구조를 가지는 주름전극
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