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광원에서 방출되는 입사 빔을 반사하여 라게르-가우시안 빔을 생성하기 위한 나선형 위상 플레이트에 있어서,가장 단차가 낮은 지점으로부터 가장 단차가 높은 지점까지 일 방향으로 갈수록, 단위 각도당 단차 증가율이 감소하는 제 1 사분 영역과, 상기 일 방향으로 갈수록 단위 각도당 단차 증가율이 증가하는 제 2 사분 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 나선형 위상 플레이트
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제 1 항에 있어서,상기 나선형 위상 플레이트는,상기 제 1 사분 영역과 상기 단위 각도당 단차 증가율이 동일한 제 3 사분 영역; 및상기 제 2 사분 영역과 상기 단위 각도당 단차 증가율이 동일한 제 4 사분 영역을 더 포함하는 나선형 위상 플레이트
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제 2 항에 있어서,상기 나선형 위상 플레이트는 방사상의 각도에 따라 단차의 높이가 동일한 복수개의 세그먼트로 구획되는 것을 특징으로 하는 나선형 위상 플레이트
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제 3 항에 있어서,단차의 크기가 증가하는 방향을 기준으로, 상기 복수개의 세그먼트가 상기 나선형 위상 플레이트에서 점유하는 방사상의 각도 범위는 상기 제 1 사분 영역 및 제 3 사분 영역에서는 순차적으로 증가하고, 상기 제 2 사분 영역 및 제 4 사분 영역에서는 순차적으로 감소하는 것을 특징으로 하는 나선형 위상 플레이트
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제 2 항에 있어서,상기 나선형 위상 플레이트는 방사상의 각도에 따라 각 단차의 높이가 순차적으로 증가하는 것을 특징으로 하는 나선형 위상 플레이트
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제 5 항에 있어서,상기 나선형 위상 플레이트는 방사상의 각도에 따라 단차가 연속적으로 증가하는 구간이 복수개로 형성되는 것을 특징으로 하는 나선형 위상 플레이트
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7
제 6 항에 있어서,상기 나선형 위상 플레이트에서 단차가 연속적으로 증가하는 복수개의 구간은 각각의 상기 제 1 사분 영역, 제 2 사분 영역, 제 3 사분 영역 및 제 4 사분 영역을 구분하는 선을 기준으로 서로 방사상으로 대칭되는 위치에 형성되는 것을 특징으로 하는 나선형 위상 플레이트
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제 1 항에 있어서,상기 나선형 위상 플레이트는 원형인 것을 특징으로 하는 나선형 위상 플레이트
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입사 빔을 방출하기 위한 빔 발생기; 및상기 빔 발생기로부터 입력되는 입사 빔을 반사하여 라게르-가우시안 빔을 생성하기 위한 나선형 위상 플레이트를 포함하고,상기 나선형 위상 플레이트는, 가장 단차가 낮은 지점으로부터 가장 단차가 높은 지점까지 일 방향으로 갈수록, 단위 각도당 단차 증가율이 감소하는 제 1 사분 영역과, 상기 일 방향으로 갈수록 단위 각도당 단차 증가율이 증가하는 제 2 사분 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 라게르-가우시안 빔 발생 장치
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10
제 9 항에 있어서,상기 나선형 위상 플레이트 상에서 가장 단차가 낮은 지점으로부터 가장 단차가 높은 지점까지의 높이 h는 아래의 수학식을 통해 결정되는 것을 특징으로 하는 라게르-가우시안 빔 발생 장치
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11
제 10 항에 있어서,상기 나선형 위상 플레이트 상에서의 방사상의 각도 φ인 지점에서, 가장 단차가 낮은 지점에 대한 상대적인 높이 H는 아래의 수학식을 통해 결정되는 것을 특징으로 하는 라게르-가우시안 빔 발생 장치
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12
제 11 항에 있어서,상기 나선형 위상 플레이트는 상기 입사 빔이 투사하여 상기 나선형 위상 플레이트 상에서 형성하는 타원의 장축의 길이보다 크거나 같은 길이의 지름을 갖는 원형인 것을 특징으로 하는 라게르-가우시안 빔 발생 장치
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13
제 12 항에 있어서,상기 원형의 나선형 위상 플레이트의 중심으로부터 반경 방향으로 연장한 부분은 동일한 단차를 갖는 것을 특징으로 하는 라게르-가우시안 빔 발생 장치
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