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실리콘 기반 광 변조 장치

  • 기술번호 : KST2021001944
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 실리콘 기반 광 변조 장치가 개시된다. 마하-젠더(Mach-Zehnder) 형의 광 변조 장치는 하나의 광 신호를 동일한 출력 파워를 가지는 두 개의 광 신호로 분리하는 광 커플러; 상기 광 커플러를 통해 분리된 두 개의 광 신호들 각각이 통과되는 PN 접합 형태를 가진 두 개의 위상 천이기; 상기 두 개의 위상 천이기에 전기 신호를 인가하기 위한 복수의 전극; 및 상기 두 개의 위상 천이기의 사이에 배치되어 상기 광 변조 장치의 동작 대역폭을 조절하기 위한 두 개의 PN 다이오드를 포함하고, 상기 두 개의 위상 천이기를 각각 통과하는 광 신호들은 상기 복수의 전극을 통해 두 개의 위상 천이기에 제공된 역전압의 크기에 따라 공핍 영역의 폭이 변경되어 굴절률이 달라짐으로써 위상이 변경될 수 있다.
Int. CL G02B 27/00 (2020.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020190179195 (2019.12.31)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0031346 (2021.03.19) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020190113055   |   2019.09.11
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유상화 대전광역시 유성구
2 이준기 세종특별자치시 새롬남로 **

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2019-1360439-66
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
마하-젠더(Mach-Zehnder) 형의 광 변조 장치에 있어서,하나의 광 신호를 동일한 출력 파워를 가지는 두 개의 광 신호로 분리하는 광 커플러;상기 광 커플러를 통해 분리된 두 개의 광 신호들 각각이 통과되는 PN 접합 형태를 가진 두 개의 위상 천이기;상기 두 개의 위상 천이기에 전기 신호를 인가하기 위한 복수의 전극; 및상기 두 개의 위상 천이기의 사이에 배치되어 상기 광 변조 장치의 동작 대역폭을 조절하기 위한 두 개의 PN 다이오드를 포함하고,상기 두 개의 위상 천이기를 각각 통과하는 광 신호들은,상기 복수의 전극을 통해 두 개의 위상 천이기에 제공된 역전압의 크기에 따라 공핍 영역의 폭이 변경되어 굴절률이 달라짐으로써 위상이 변경되는 광 변조 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 두 개의 위상 천이기들 각각은,상기 복수의 전극으로부터 인가된 전기 신호를 수신하기 위한 슬랩 영역을 포함하는 광 변조 장치
3 3
제2항에 있어서,상기 슬랩 영역은,상기 PN 접합 형태를 가진 두 개의 위상 천이기의 코어보다 높은 도핑 농도로 도핑되는 광 변조 장치
4 4
제1항에 있어서,상기 광 변조 장치는,상기 두 개의 위상 천이기 사이에 배치된 두 개의 PN 다이오드의 도핑 농도에 따라 동작 대역폭 및 위상 천이기의 구동 인가 전압이 조절되는 광 변조 장치
5 5
제4항에 있어서,상기 광 변조 장치의 동작 대역폭은,상기 두 개의 PN 다이오드의 도핑 농도를 상기 두 개의 위상 천이기의 도핑 농도 보다 작게 하는 경우, 상기 광 변조 장치의 전체 커패시턴스가 감소되어 동작 대역폭이 증가하고 위상 천이기의 구동 인가 전압이 감소하는 광 변조 장치
6 6
제4항에 있어서,상기 광 변조 장치의 동작 대역폭은,상기 두 개의 다이오드의 도핑 농도를 상기 두 개의 위상 천이기의 도핑 농도 보다 크게 하는 경우, 상기 광 변조 장치의 전체 커패시턴스가 증가되어 동작 대역폭이 감소하고 위상 천이기의 구동 인가 전압이 증가하는 광 변조 장치
7 7
제1항에 있어서,상기 광 변조 장치의 변조 효율을 향상시키기 위해 상기 복수의 전극을 통해 전파되는 전기 신호와 상기 위상 천이기를 통해 전파되는 광 신호의 속도를 일치시키는 광 변조 장치
8 8
링(Ring) 형의 광 변조 장치에 있어서,광 신호가 통과되는 PN 접합 형태를 가진 링 형태의 위상 천이기;상기 위상 천이기에 전기 신호를 인가하기 위한 복수의 전극; 및상기 위상 천이기와 전극 사이에 배치되어 상기 광 변조 장치의 동작 대역폭을 조절하기 위한 PN 다이오드를 포함하고,상기 위상 천이기를 통과하는 광 신호는,상기 복수의 전극을 통해 위상 천이기에 제공된 역전압의 크기에 따라 공핍 영역의 폭이 변경되어 굴절률이 달라짐으로써 위상이 변경되는 광 변조 장치
9 9
제8항에 있어서,상기 링 형 광 변조 장치에 입력되는 광 신호의 파장을 튜닝하기 위한 열적 컨택 영역; 및상기 위상 천이기에 인가되는 전기 신호에 오프셋(Offset)를 제공하기 위한 DC 바이어스 컨택 영역을 더 포함하는 광 변조 장치
10 10
제8항에 있어서,상기 위상 천이기는,상기 복수의 전극으로부터 인가된 전기 신호를 수신하기 위한 슬랩 영역을 포함하는 광 변조 장치
11 11
제10항에 있어서,상기 슬랩 영역은,상기 PN 접합 형태를 가진 위상 천이기의 코어보다 높은 도핑 농도로 도핑되는 광 변조 장치
12 12
제8항에 있어서,상기 광 변조 장치는,상기 위상 천이기와 전극 사이에 배치된 PN 다이오드의 도핑 농도에 따라 동작 대역폭 및 위상 천이기의 구동 인가 전압이 조절되는 광 변조 장치
13 13
제12항에 있어서,상기 광 변조 장치의 동작 대역폭은,상기 PN 다이오드의 도핑 농도를 상기 위상 천이기의 도핑 농도 보다 작게 하는 경우, 상기 광 변조 장치의 전체 커패시턴스가 감소되어 동작 대역폭이 증가하고 위상 천이기의 구동 인가 전압이 감소하는 광 변조 장치
14 14
제12항에 있어서,상기 광 변조 장치의 동작 대역폭은,상기 PN 다이오드의 도핑 농도를 상기 위상 천이기의 도핑 농도 보다 크게 하는 경우, 상기 광 변조 장치의 전체 커패시턴스가 증가되어 동작 대역폭이 감소하고 위상 천이기의 구동 인가 전압이 증가하는 광 변조 장치
15 15
제8항에 있어서,상기 광 변조 장치의 변조 효율을 향상시키기 위해 상기 복수의 전극을 통해 전파되는 전기 신호와 상기 위상 천이기를 통해 전파되는 광 신호의 속도를 일치시키는 광 변조 장치
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1 미래창조과학부 한국전자통신연구원 ETRI연구개발지원사업 메트로 액세스 네트워크용 200Gb/s 광트랜시버 기술 개발