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오르소-벤조퀴논(ortho-benzoquinone)을 포함하는, 청색광 차단용 콘택트렌즈
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제1항에 있어서, 상기 콘택트렌즈는, 메타아크릴로일옥시에틸 포스포릴콜린(2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine, MPC)를 더 포함하는, 청색광 차단용 콘택트렌즈
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제2항에 있어서,상기 메타아크릴로일옥시에틸 포스포릴콜린(2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine, MPC)는, 상기 콘택트렌즈를 이루는 공중합체를 기준으로 5 내지 10 중량부를 포함하는, 청색광 차단용 콘택트렌즈
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제1항에 있어서, 상기 콘택트렌즈는, 접촉각이 50 내지 80인, 청색광 차단용 콘택트렌즈
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제1항에 있어서, 상기 콘택트렌즈는, 함수율이 40% 이상인, 청색광 차단용 콘택트렌즈
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제1항에 있어서, 상기 콘택트렌즈는, 청색광 차단율이 20 내지 45%이면서, 광투과율이 80% 이상인, 청색광 차단용 콘택트렌즈
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제6항 있어서,상기 청색광은, 380 내지 450 nm의 파장범위를 갖는, 청색광 차단용 콘택트렌즈
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제1항에 있어서, 상기 콘택트렌즈는, 자외선을 차단하는, 청색광 차단용 콘택트렌즈
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(a) 폴리페놀 단량체와 렌즈 기재 조성물의 공중합체를 형성하는 단계; 및(b) 상기 공중합체를 산화시켜 오르소-벤조퀴논(ortho-benzoquinone)을 형성하는 단계를 포함하는, 청색광 차단용 콘택트렌즈 제조방법
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(a) 폴리페놀 단량체, 렌즈 기재 조성물 및 메타아크릴로일옥시에틸 포스포릴콜린(2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine, MPC)의 공중합체를 형성하는 단계; 및(b) 상기 공중합체를 산화시켜 오르소-벤조퀴논(ortho-benzoquinone)을 형성하는 단계를 포함하는, 청색광 차단용 콘택트렌즈 제조방법
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제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 산화는, pH 8 내지 10의 트리스 완충용액(Tris buffer)에 의한, 청색광 차단용 콘택트렌즈 제조방법
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제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 오르소-벤조퀴논(ortho-benzoquinon)은, 상기 폴리페놀 단량체로부터 생성되는, 청색광 차단용 콘택트렌즈 제조방법
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제9항 또는 제10항에 있어서,상기 폴리페놀 단량체는, 카테콜(Catechol) 및 파이갈롤(pyrogallol) 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나에 중합기가 도입된, 청색광 차단용 콘택트렌즈 제조방법
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제9항 또는 제10항에 있어서,상기 렌즈 기재 조성물은, 하이드록시에틸 메타크릴레이트(2-hydroxyethyl methacrylate, HEMA) 또는 실리콘 단량체인, 청색광 차단용 콘택트렌즈 제조방법
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제9항 또는 제10항에 있어서,상기 (a) 단계는, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트(Ethylene glycol dimethacrylate, EGDMA), 디에틸렌 글리콜 메타크릴레이트(DEGMA), 글리세롤 디메타크릴레이트(GDMA), 디비닐벤젠(DVB) 및 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트(TMPTMA) 중 어느 하나의 가교제에 의한 중합반응을 포함하는, 청색광 차단용 콘택트렌즈 제조방법
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제9항 또는 제10항에 있어서,상기 (a) 단계는, 아조비스이소부틸로나이트릴(Azobisisobutyronitrile, AIBN), 벤조인 메틸 에테르(Benzoin methyl ether, BME), 벤조일 퍼옥사이드(Benzoyl peroxide, BPO), 디메톡시페닐 아세토페논(DMPA) 및 2,5-디메틸-2,5-디-(2-에틸헥사노퍼옥시)헥산 중 어느 하나의 중합개시제에 의한 중합반응을 포함하는, 청색광 차단용 콘택트렌즈 제조방법
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