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일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치로서,상측에 상기 배출가스가 유입하도록 구성된 가스 유입구가 구비된 본체;상기 본체의 상측에 형성되고, 액상의 사염화티탄을 분사하는 분무기; 및상기 본체 내부의 상측에 형성되어, 본체의 내벽에 물을 분사하는 수분사링;을 포함하는 분무냉각탑을 포함하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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제1항에 있어서,상기 본체의 하단에는, 유입된 배출가스 중에서 냉각된 액상 또는 입자상의 물질을 회수하는 회수장치가 형성되고,유입된 배출가스 중의 사염화티탄과, 상기 액상의 사염화티탄은 기상으로 배출되는 것을 특징으로 하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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제1항에 있어서,상기 분무기는 노즐을 구비하여, 상기 노즐을 통해 액상의 사염화티탄을 유입된 배출가스에 분사하며,상기 노즐의 분무 각도는 120 내지 150 도 이고, 분무 액적의 직경은 100 내지 200㎛ 인 것을 특징으로 하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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제3항에 있어서,상기 액상의 사염화티탄의 점도는 0
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제1항에 있어서,상기 수분사링은 환형의 원통 형상을 가지며,둘레 방향을 따라 소정의 간격으로 배치된 다수 개의 홀을 구비하여, 상기 홀을 통해 상기 본체의 벽면 방향으로 물을 분사하는 것을 특징으로 하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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제1항에 있어서,상기 수분사링은 환형의 원통 형상을 가지며,둘레 방향을 따라 배치된 슬릿을 구비하여, 상기 슬릿을 통해 상기 본체의 벽면 방향으로 물을 분사하는 것을 특징으로 하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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제1항에 있어서,상기 수분사링으로부터 물이 분사됨으로써, 상기 본체의 벽면에 1 내지 2mm 두께의 수막이 형성되는 것을 특징으로 하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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제1항에 있어서,상기 분무냉각탑 후단에 연결되고, 상기 분무냉각탑으로부터 배출된 혼합 가스 내의 입자상 물질을 집진하는 집진기; 및상기 집진기 후단에 연결되고, 상기 집진기로부터 배출된 혼합 가스를 응축시켜 액상의 사염화티탄을 생성하는 응축기;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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제8항에 있어서,상기 집진기는,상부에 구비되는 여과필터; 및상기 여과필터의 하부에 일체로 수직 연결되는 싸이클론집진기;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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제8항에 있어서,상기 응축기의 후단에는, 생성된 액상의 사염화티탄을 회수하는 회수장치가 형성되고,상기 응축기에서 배출되는 가스의 온도는 70 내지 80℃로 유지되는 것을 특징으로 하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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제10항에 있어서,상기 분무기는, 상기 회수장치로부터 회수된 액상의 사염화티탄을 공급받아 분사하는 것을 특징으로 하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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제8항에 있어서,상기 응축기 후단에 연결되고, 상기 응축기에서 배출되는 가스의 일부를 상기 유동층염화로로 공급하는 유인팬; 및상기 유인팬 후단에 연결되고, 상기 유인팬에서 배출되는 가스를 공급 받아 염소 성분을 중화시키는 흡수탑;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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제1항에 있어서,상기 유동층염화로는,일메나이트를 800℃ 내지 1000℃의 온도에서 선택 염화 반응시키는 제1 유동층염화로; 및상기 제1 유동층염화로 후단에 연결되고, 제1 유동층염화로로부터 이동된 이산화티탄 입자를 650℃ 내지 850℃의 온도 범위에서 탄소 염화 반응시키는 제2 유동층염화로;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 일메나이트 유동층염화로의 배출가스에서 사염화티탄을 회수하는 장치
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