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커피 찌꺼기와 나노입자 모체를 이격하여 배치하는 제 1단계; 및커피 찌꺼기를 탄소원으로 화학기상증착을 수행하여 상기 나노입자 모체 상에 그래핀층을 형성하는 제 2단계;를 포함하는 그래핀 나노볼 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 나노입자 모체는 탄화규소 나노입자 또는 이산화규소 나노입자인 그래핀 나노볼 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 제 2단계의 수행 중 상기 커피 찌꺼기 위치의 온도가 나노입자 모체 위치의 온도보다 더 높은 것을 특징으로 하는 그래핀 나노볼 제조방법
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제 3항에 있어서,상기 커피 찌꺼기 위치의 온도와 나노입자 모체 위치의 온도차는 250 내지 350 ℃인 그래핀 나노볼 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 커피 찌꺼기 위치의 온도는 1300 내지 1400 ℃인 그래핀 나노볼 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 제 2단계는 4 내지 10시간 동안 수행되는 그래핀 나노볼 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 제 2단계 이후 그래핀층 상에 화학기상증착으로 탄화규소층을 형성하는 제 3단계;를 더 포함하는 그래핀 나노볼 제조방법
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8
제 7항에 있어서,상기 제 3단계 이후 탄화규소층 상에 화학기상증착으로 제 2 그래핀층을 형성하는 제 4단계;를 더 포함하는 그래핀 나노볼 제조방법
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9
제 1항 내지 제 8항에서 선택되는 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 그래핀 나노볼
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제 9항에 있어서,상기 그래핀 나노볼은 상기 나노입자 모체 표면에 형성된 그래핀층의 두께가 10 내지 50 ㎚인 그래핀 나노볼
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