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기재, 및 상기 기재 상에 중공 구조체들이 다층으로 적층된 중공 구조체층을 포함하고,각각의 중공 구조체는 중앙의 중공부와 상기 중공부를 둘러싸는 제올라이트 이미다졸레이트 골격체층 및 상기 제올라이트 이미다졸레이트 골격체층 상에 코팅된 폴리머막을 포함하는 기체 분리막
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제1항에 있어서,상기 기재는 다공성 알루미나 기판 또는 다공성 지르코늄 기판인 기체분리막
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제1항에 있어서,상기 폴리머막에 포함되는 폴리머는 폴리이미드, 폴리디메틸실록산, 폴리에틸렌옥사이드 및 폴리에테르 블록아마이드로 이루어지는 군으로부터 선태되는 1종 이상인 기체분리막
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다음의 단계들을 포함하는 기체 분리막의 제조방법:1) 폴리스티렌 비즈를 기재 상에 적층하여, 기재 상에 다층의 폴리스티렌 비즈층이 적층된 폴리스티렌 다층 필름을 제조하는 단계;2) 상기 1) 단계에서 수득된 폴리스티렌 다층 필름을 질화아연 용액에 침지한 후 열처리한 다음, 이미다졸 용액에 침지 후 열처리하여 각각의 폴리스티렌 비즈 상에 제올라이트 이미다졸레이트 골격체층을 형성하는 단계;3) 상기 2) 단계에서 수득된 제올라이트 이미다졸레이트 골격체층이 형성된 폴리스티렌 다층 필름으로부터 폴리스티렌 비즈를 제거하여 다공성 필름을 수득하는 단계; 및4) 상기 3) 단계에서 수득된 다공성 필름을 폴리머 용액에 침지하여 각각의 제올라이트 이미다졸레이트 골격체 상에 폴리머막을 코팅하는 단계
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제4항에 있어서,상기 1) 단계에서, 상기 폴리스티렌 비즈는 카르복실기로 표면처리된 것인 기체 분리막의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 1) 단계에서, 기재 상에 상기 폴리스티렌 비즈의 적층은 폴리스티렌 비즈의 분산액에 기재를 담지한 후 건조하여 수행되는 기체 분리막의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 2) 단계에서 질화아연 용액에 침지 후 열처리하는 공정은 질화아연 용액에 50~100℃에서 5~20분간 침지한 후, 70~150℃에서 5~20분간 열처리를하여 수행되는 기체 분리막의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 2) 단계에서, 상기 질화아연 용액에 포함되는 질화아연 화합물은 질화아연6수화물인 기체 분리막의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 2) 단계에서 이미다졸 용액에 침지 후 열처리하는 공정은 이미다졸 용액에 50~100℃에서 5~20분간 침지한 후, 70~150℃에서 5~20분간 열처리하여 수행되는 기체 분리막의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 2) 단계에서, 상기 이미다졸 용액에 포함되는 이미다졸 화합물은 2-메틸이미다졸인 기체 분리막의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 2) 단계는 1회 또는 2회 이상 반복하여 수행되는 기체 분리막의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 3) 단계에서, 상기 폴리스티렌 비즈의 제거는 상기 폴리스티렌 다층 필름을 용매에 침지하여 수행되는 기체 분리막의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 용매는 디메틸포름아마이드, 디메틸설폭사이드 및 테트라하이드로푸란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 기체 분리막의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 4) 단계에서, 상기 폴리머 용액에 포함되는 폴리머는 폴리이미드, 폴리디메틸실록산, 폴리에틸렌옥사이드 및 폴리에테르 블록아마이드로 이루어지는 군으로부터 선태되는 1종 이상인 기체 분리막의 제조방법
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