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(a) 이트륨계 화합물 형성용 염을 용매에 용해하여 이트륨계 화합물 형성용 염 용액을 마련하는 단계;(b) 상기 이트륨계 화합물 형성용 염 용액을 세라믹 모 기판 표면에 코팅하는 단계; 및(c) 상기 이트륨계 화합물 형성용 염 용액이 코팅된 세라믹 모 기판을 열처리하는 단계;를 포함하고,상기 세라믹 모 기판은 세라믹 기판이거나, 상기 세라믹 기판에 이트륨계 소재를 포함하는 코팅막이 형성된 것인 이트륨계 세라믹 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계에서 YOF, Y5O4F7, Y7O6F9, YF3 및 Y2O3 중 1종 이상을 형성하는 이트륨계 화합물 형성용 염 용액을 마련하는 이트륨계 세라믹 제조방법
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제1항에 있어서,상기 이트륨계 화합물 형성용 염은 칼슘(Ca), 질소(N), 산소(O), 플루오르(F), 탄소(C), 및 수소(H) 중 1종 이상을 포함하거나, 또는/및이트륨(Y)을 포함하는 염화물, 질산염 또는 초산염을 포함하는 이트륨계 세라믹 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 세라믹 기판에 이트륨계 소재를 포함하는 코팅막이 형성된 세라믹 모 기판은 APS(Atmospheric Plasma Spray), PVD(Physical Vapor Deposition), 서스펜션 플라즈마 용사 코팅(Suspension plasma spray), 저온분사 코팅(cold spray), 저압건식분사 코팅(aerosol deposition, AD), 침지 또는 도포하여 코팅막이 형성되는 이트륨계 세라믹 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계에서, 코팅은 APS(Atmospheric Plasma Spray), PVD(Physical Vapor Deposition), 서스펜션 플라즈마 용사 코팅(Suspension plasma spray), 저온분사 코팅(cold spray), 저압건식분사 코팅(aerosol deposition, AD), 침지 또는 도포하여 수행되는 이트륨계 세라믹 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계에서, 300℃ 이하의 저온에서 열처리하거나, 자외선 처리하여 열처리하거나, 또는 진공 분위기에서 열처리하는 이트륨계 세라믹 제조방법
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세라믹 기판 또는 이트륨계 소재를 포함하는 코팅막이 형성된 세라믹 기판; 및상기 세라믹 기판 표면에 형성되는 이트륨계 코팅층;을 포함하는 이트륨계 세라믹
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제7항에 있어서,상기 이트륨계 코팅층은 YOF, Y5O4F7, Y7O6F9, YF3 및 Y2O3 중 1종 이상을 포함하는 이트륨계 세라믹
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제7항에 있어서,상기 이트륨계 소재와 상기 이트륨계 코팅층은 서로 동일한 성분을 포함하는 이트륨계 세라믹
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