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선택적 촉매 환원 반응방법으로, 암모니아 공급원 및 질산 공급원을 혼합한 후, 일산화질소(NO)를 포함하는 처리가스에 주입하는 단계; 및암모니아 공급원과 질산 공급원을 주입한 반응기의 온도를 250 내지 350 ℃ 범위로 유지시키는 단계; 를 포함하고,상기 반응기 내에 주입되는 질산 공급원에 의하여 상기 촉매의 황피독에 대한 저항성이 향상되는 것이며,상기 질산 공급원은, 선택적 촉매 환원 반응과 함께 생성되는 AS(NH4HSO4, Ammonium sulfate) 또는 ABS(ammonium bisulfate)를 선택적 촉매 환원 반응과 동시에, 운전 중에(in-situ) 분해하여 상기 황피독에 대한 저항성을 개선시키고, 비활성화 촉매를 재생시키는 것이며,상기 암모니아 공급원과 질산 공급원의 몰비는 1:2 내지 2:1인 것을 특징으로 하는, 선택적 촉매 환원 반응방법
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제1항에 있어서,일산화질소(NO)를 포함하는 처리가스에 질산 공급원을 독립적으로 주입하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 선택적 촉매 환원 반응방법
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제1항에 있어서,암모니아 공급원 및 질산 공급원은 일산화질소(NO)를 포함하는 처리가스에 노즐을 통하여 액적 형태로 분무되며,상기 암모니아 공급원 및 질산 공급원의 분무는 150 내지 300 ℃ 의 온도로 분무되는 것을 특징으로 하는, 선택적 촉매 환원 반응방법
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제1항에 있어서, 상기 암모니아 공급원은, 요소수, 암모니아수 또는 기체 암모니아이며,질산 공급원은, 질산암모늄(NH4NO3) 또는 질산(HNO3)인 것을 특징으로 하는, 선택적 촉매 환원 반응방법
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제1항에 있어서, 상기 질산 공급원의 주입량은 상기 처리가스 내의 이산화질소/일산화질소 농도비, NH3/NOx 농도비, SO2 농도 변화 및 탈질 효율 저하 정도에 따라 가변되는 것을 특징으로 하는 선택적 촉매 환원 반응방법
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선택적 촉매 환원 반응 시스템으로,일산화질소(NO)를 포함하는 배기가스를 포함하며, 선택적 촉매 환원 반응을 위한 촉매가 내부에 구비되는 배기가스 반응기;배기가스 반응기 내로 암모니아 공급원 및 질산 공급원을 주입하기 위한 혼합가스 주입라인; 및상기 암모니아 공급원 및 질산 공급원의 주입량을 제어하기 위한 제1제어부; 를 포함하며,상기 암모니아 공급원 및 질산 공급원이 주입되는 배기가스 반응기 내 온도는 250 내지 350℃ 범위로 유지시키는 것이고,상기 반응기 내에 주입되는 질산 공급원에 의하여 상기 촉매의 황피독에 대한 저항성이 향상되는 것이며,상기 질산 공급원은, 선택적 촉매 환원 반응과 함께 생성되는 AS(NH4HSO4, Ammonium sulfate) 또는 ABS(ammonium bisulfate)를 선택적 촉매 환원 반응과 동시에, 운전 중에(in-situ) 분해하여 상기 황피독에 대한 저항성을 개선시키고, 비활성화 촉매를 재생시키는 것이며,상기 암모니아 공급원과 질산 공급원의 몰비는 1:2 내지 2:1인 것을 특징으로 하는, 선택적 촉매 환원 반응 시스템
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제9항에 있어서,상기 혼합가스 주입라인의 온도는 150 내지 300 ℃ 범위이며, 상기 혼합가스 주입라인 내에서, 암모니아 공급원과 질산 공급원이 분해되어 혼합가스가 생성되는 것을 특징으로 하는, 선택적 촉매 환원 반응 시스템
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제9항에 있어서,상기 암모니아 공급원은, 요소수, 암모니아수 또는 기체 암모니아이며,질산 공급원은, 질산암모늄(NH4NO3) 또는 질산(HNO3)인 것을 특징으로 하는, 선택적 촉매 환원 반응 시스템
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제9항에 있어서,배기가스 반응기 내로 질산 공급원을 독립적으로 주입하기 위한 첨가제 주입라인을 더 포함하며, 상기 첨가제 주입라인은 질산 공급원의 주입량을 제어하기 위한 제2제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는, 선택적 촉매 환원 반응 시스템
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제12항에 있어서,첨가제 주입라인은 혼합가스 주입라인으로 질산 공급원을 전달하는 분지관이 연결되어 있는 것을 특징으로 하는, 선택적 촉매 환원 반응 시스템
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