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이온성 액체를 포함하는, 수처리 분리막용 세정제 조성물
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제 1항에 있어서,상기 이온성 액체는,암모늄, 포스포늄, 피리디늄, 이미다졸륨, 이미다졸리늄, 피라졸늄, 술포늄, 피롤리디늄, 피롤리디늄 및 피페리디늄으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 양이온을 포함하는 유기염인, 수처리 분리막용 세정제 조성물
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제 2항에 있어서,상기 이온성 액체는,포스페이트계 화합물, 설페이트계 화합물, 아세테이트계 화합물, 할라이드계 화합물 및 유사할라이드계 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 화합물인, 수처리 분리막용 세정제 조성물
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제 1항에 있어서,상기 세정제 조성물은,총 중량을 기준으로, 0
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제 4항에 있어서,상기 세정제 조성물의 pH는,2 내지 12인, 수처리 분리막용 세정제 조성물
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제 1항에 있어서,상기 세정제 조성물은,상기 수처리 분리막에 부착된 비가역적 오염원을 세정하는 것인, 수처리 분리막용 세정제 조성물
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제 6항에 있어서,상기 비가역적 오염원은,미생물에 의해 생산된 다당체의 복합체, 다당체와 세균이 응집된 복합체, 휴믹산, 알긴산, 펩타이트, 단백질 및 이들의 염에서 선택되는 것인, 수처리 분리막용 세정제 조성물
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제 1항에 있어서,상기 수처리 분리막의 재료는,폴리테트라플로오로에틸렌, 폴리비닐리덴플루오라이드, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리아미드, 폴리설폰, 폴리아크릴로니트릴, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐, 셀룰로오스 및 셀룰로오스 아세테이트로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 고분자; 및 실리카, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 스테인레스스틸, 알루미늄으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 무기물; 에서 선택되는 것인, 수처리 분리막용 세정제 조성물
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수처리 분리막의 파울링을 제거하기 위한 세정방법에 있어서,제1항 내지 제8항 중 선택되는 어느 한 항에 따른 세정제 조성물을 비가역적 오염원이 부착된 수처리 분리막과 접촉시키는 단계;를 포함하는 수처리 분리막의 세정방법
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제 9항에 있어서,상기 단계는,0 내지 50℃ 의 온도 범위에서 수행되는 것인, 수처리 분리막의 세정방법
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제 9항에 있어서,상기 단계 이후,세정 전과 세정 후의 수투과도를 비교하여, 수투과도 회복율을 평가하는 단계;를 더 포함하는 수처리 분리막의 세정방법
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제 11항에 있어서,상기 수처리 분리막의 수투과도 회복율이 70%이상인, 수처리 분리막의 세정방법
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