맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

H2O 안정성을 가지는 물의 선택적 분리를 위한 고온 고분자 분리막 및 이를 이용한 반응-분리 하이브리드 시스템

  • 기술번호 : KST2021003276
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 H2O 안정성을 가지는 물의 선택적 분리를 위한 반응-분리 하이브리드 시스템용 고온 고분자 분리막 및 이를 이용한 반응-분리 하이브리드 시스템에 관한 것으로, 폴리[4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물-2,2-비스(3-아미노-4-히드록시페닐)-헥사플루오로프로판-4,4'-디아미노-3,3'-디하이드록시벤지딘] (폴리[6FDA-BisAPAF-HAB]) 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 고분자 분리막은 고온에서도 안정하며, 수분열화 현상이 없어 고온에서 반응 부산물인 물을 생성과 동시에 선택적 분리를 위한 반응-분리 하이브리드 시스템용 고온 고분자 분리막으로 사용될 수 있다.
Int. CL B01D 71/64 (2006.01.01) B01D 67/00 (2006.01.01) B01D 69/08 (2006.01.01)
CPC B01D 71/64(2013.01) B01D 67/0006(2013.01) B01D 69/08(2013.01) B01D 2325/22(2013.01) B01D 2325/24(2013.01) B01D 2325/30(2013.01) B01D 2325/20(2013.01)
출원번호/일자 1020200030326 (2020.03.11)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-2236277-0000 (2021.03.30)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20210402) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.03.11)
심사청구항수 9

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 문수영 대전광역시 유성구
2 이종명 대전광역시 유성구
3 박해구 대전광역시 유성구
4 김석기 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 공간 대한민국 대전광역시 서구 둔산서로 ***, *층(둔산 *동, 산업은행B/D)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2020.03.11 수리 (Accepted) 1-1-2020-0259261-89
2 등록결정서
Decision to grant		 2021.03.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0233215-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반응-분리 하이브리드 시스템용 고온 고분자 분리막에 있어서, 상기 고분자는 이수화물로서 폴리[4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물(6FDA)과 디아민으로서 2,2-비스(3-아미노-4-히드록시페닐)-헥사플루오로프로판(BisAPAF) 및 4,4'-디아미노-3,3'-디하이드록시벤지딘(HAB) 모노머를 중합하여 제조되는 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는, H2O 안정성을 가지는 물의 선택적 제거를 위한 고온 고분자 분리막
2 2
제1항에 있어서,상기 이수화물과 디아민은 몰 비로 1 : 1 인 것을 특징으로 하는 H2O 안정성을 가지는 물의 선택적 제거를 위한 고온 고분자 분리막
3 3
제1항에 있어서,상기 디아민 중 HAB/bisAPAF의 몰 비는 0
4 4
화학반응이 일어날 수 있는 내부 공간을 가진 반응기; 상기 반응기의 내부 공간을 둘 이상으로 구획하는 분리막;을 포함하여 구성되되, 상기 분리막은 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 고온 고분자 분리막인 것을 특징으로 하는 반응-분리가 연속적으로 가능한 반응-분리 하이브리드 시스템
5 5
제4항에 있어서, 상기 화학반응에서 부산물로서 물이 생성하는 것을 특징으로 하는 반응-분리가 연속적으로 가능한 반응-분리 하이브리드 시스템
6 6
제5항에 있어서, 상기 화학반응은 150℃ ~ 450℃ 범위의 온도에서 진행되는 것을 특징으로 하는 반응-분리가 연속적으로 가능한 반응-분리 하이브리드 시스템
7 7
제4항에 있어서, 상기 분리막의 한 측편으로는 반응을 위한 반응물이 도입되고, 상기 분리막의 반대 측편으로는 투과된 물을 스윕하는 스윕가스가 도입되도록 구성된 것을 특징으로 하는 반응-분리가 연속적으로 가능한 반응-분리 하이브리드 시스템
8 8
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 고온 고분자 분리막을 사용하여 반응 부산물로 생성되는 물을 선택적으로 제거하는 반응-분리 하이브리드 시스템에서 화학반응을 진행함으로써, 생성물의 수율을 높이는 것을 특징으로 하는 반응과 분리를 동시에 진행하는 화합물 제조 방법
9 9
제 8항에 있어서, 고분자 분리막을 투과한 물을 스윕하기 위한 스윕가스가 반응물과 동일한 것을 특징으로 하는 반응과 분리를 동시에 진행하는 화합물 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국화학연구원 국가과학기술연구회연구운영비지원(R＆D)(주요사업비) 평형한계수율 극복을 위한 반응분리 하이브리드 시스템 개발