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환원제, CuF2 및 무기산을 포함하는, 금속 제염용 식각 조성물
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제1항에 있어서, 상기 환원제는 NaBH4, NH3BH3, N2H4 및 LiAlH4로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 하나 이상인, 금속 제염용 식각 조성물
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3
제1항에 있어서, 상기 환원제의 농도는 5x10-4 내지 0
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제1항에 있어서, 상기 CuF2의 농도는 1x10-6 내지 1x10-2M인, 금속 제염용 식각 조성물
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5
제1항에 있어서, 상기 무기산은 H2SO4, HNO3 및 H3PO4로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 하나 이상인, 금속 제염용 식각 조성물
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6
제1항에 있어서, 상기 무기산은 상기 금속 제염용 조성물의 pH가 2 내지 3
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7
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 금속 제염용 조성물을 방사능으로 오염된 금속에 접촉시키는 단계를 포함하는, 금속 제염방법
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8
제7항에 있어서, 상기 금속은 원자력발전소 일차 냉각계통을 구성하는 금속인, 금속 제염방법
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제7항에 있어서, 상기 금속은 스테인리스강, 인코넬강 및 지르코늄 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 하나 이상인, 금속 제염방법
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10
제7항에 있어서, 상기 금속 제염용 조성물을 방사능으로 오염된 금속에 접촉시키는 단계는 60 내지 130℃의 온도 범위에서 수행되는, 금속 제염방법
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