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투명 시각피질로서,FTO층;상기 FTO층 위의 산화티타늄층; 및상기 산화티타늄층 위의 산화니켈층; 을 포함하고,상기 산화티타늄층 및 상기 산화니켈층은 헤테로 구조를 형성하는, 투명 시각피질
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청구항 1에 있어서,상기 투명 시각피질은,불 균일한 광 조사에 의해 생성되는 층 내 광기전효과에 따른 광전류를 형성하는, 투명 시각피질
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청구항 1에 있어서,상기 투명 시각피질은,상기 산화니켈층 위의 전극층을 더 포함하는, 투명 시각피질
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청구항 1에 있어서,상기 산화티타늄층은,스퍼터링을 수행하여 티타늄 타겟을 증착 시켜 티타늄층을 형성하고 급속열처리를 통해 상기 티타늄층을 산화시켜 생성되는, 투명 시각피질
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청구항 1에 있어서,상기 산화니켈층은,스퍼터링을 수행하여 산화니켈 타겟을 증착 시켜 생성되는, 투명 시각피질
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청구항 1에 있어서,상기 산화티타늄층은 10 내지 1000nm의 두께를 갖고,상기 산화니켈층은 10 내지 1000nm의 두께를 갖는, 투명 시각피질
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청구항 1에 있어서,상기 투명 시각피질은,가시광선 영역(파장 400 내지 800nm)에서 30% 이상의 투과율을 갖는, 투명 시각피질
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투명 시각피질의 제조방법으로서,FTO층을 배치하는 단계;상기 FTO층 위에 산화티타늄층을 배치하는 단계; 및상기 산화티타늄층 위에 산화니켈층을 배치하는 단계; 를 포함하고,상기 산화티타늄층 및 상기 산화니켈층은 헤테로 구조를 형성하는, 투명 시각피질의 제조방법
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청구항 8에 있어서,상기 투명 시각피질의 제조방법은,상기 산화니켈층 위에 전극층을 배치하는 단계; 를 더 포함하는, 투명 시각피질의 제조방법
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청구항 8에 있어서,상기 산화티타늄층을 배치하는 단계는,스퍼터링을 수행하여 티타늄 타겟을 증착 시키는 제1스퍼터링단계; 및상기 제1스퍼터링을 수행하여 증착 된 티타늄층에 급속열처리를 수행하는 급속열처리단계; 를 포함하는, 투명 시각피질의 제조방법
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