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레퍼런스 여기광과, 측정 대상인 샘플(310)에 여기광을 조사하는 광원부(100);상기 샘플(310)이 수납되는 적분구(300);상기 적분구(300)에서 출력되는 계측광의 측정 스펙트럼을 검출하는 분광부(400); 및상기 분광부(400)에서 출력되는 스펙트럼의 보정을 통해 상기 샘플(310)의 광 특성을 산출하는 데이터 분석부(500)를 포함하되,상기 데이터 분석부(500)의 스펙트럼 보정은 레퍼런스 여기광 측정 스펙트럼(점선)에서 여기광의 스펙트럼(R1)과, 오염에 의해 파장 변환된 스펙트럼(R2)을 이용하고, 측정 스펙트럼(실선)에서 파장 변환되지 않은 광의 스펙트럼(S1)을 통해 파장 변환된 측정 스펙트럼(S2)으로부터 측정과정에서 발생하는 오염에 의해 파장 변환된 양을 제거하는 것을 특징으로 하는 적분구를 이용한 형광 측정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 스펙트럼의 보정은 샘플(310)의 삽입 후 파장변환된 측정 스펙트럼 영역에서 다음의 수식, S2 - R2 × (S1의 세기/R1의 세기) - 여기서, R1은 레퍼런스 여기광의 측정 스펙트럼에서 여기광 스펙트럼, R2는 레퍼런스 여기광의 측정 스펙트럼에서 파장 변환된 스펙트럼, S1은 샘플 삽입 후 측정한 측정 스펙트럼에서 파장 변환되지 않은 광의 스펙트럼, S2는 샘플 삽입 후 측정한 측정 스펙트럼에서 파장 변환된 광의 스펙트럼 - 으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적분구를 이용한 형광 측정 장치
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제 2 항에 있어서,상기 S1의 세기/R1의 세기는 S1의 높이/R1의 높이 또는 S1의 면적/R1의 면적 중 어느 하나로 산출하는 것을 특징으로 하는 적분구를 이용한 형광 측정 장치
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a) 분광부(400)가 적분구(300)로부터 레퍼런스 여기광의 측정 스펙트럼(R1, R2)을 수신하는 단계;b) 상기 분광부(400)가 적분구(300)로부터 샘플(310) 삽입 후 측정한 측정 스펙트럼에서 파장 변환되지 않은 측정 스펙트럼(S1)과, 파장 변환된 측정 스펙트럼(S2)을 수신하는 단계;c) 데이터 분석부(500)가 샘플 삽입 후 측정한 측정 스펙트럼에서 적분구의 오염으로 발생한 오차를 계산하는 단계; 및d) 상기 데이터 분석부(500)가 상기 샘플(310) 삽입 후 측정한 측정 스펙트럼에서 파장 변환된 부분의 측정 스펙트럼(S2)으로부터 적분구의 오염에 의해 발생한 양을 제거하여 보정된 스펙트럼을 산출하고, 상기 보정된 스펙트럼을 출력하는 단계를 포함하는 적분구를 이용한 형광 측정 방법
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제 4 항에 있어서,d) 단계의 보정된 스펙트럼의 산출은 샘플(310)의 삽입 후 파장변환된 측정 스펙트럼 영역에서 다음의 수식, S2 - R2 × (S1의 세기/R1의 세기) - 여기서, R1은 레퍼런스 여기광의 측정 스펙트럼에서 여기광 스펙트럼, R2는 레퍼런스 여기광의 측정 스펙트럼에서 파장 변환된 스펙트럼, S1은 샘플 삽입 후 측정한 측정 스펙트럼에서 파장 변환되지 않은 광의 스펙트럼, S2는 샘플 삽입 후 측정한 측정 스펙트럼에서 파장 변환된 광의 스펙트럼 - 으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적분구를 이용한 형광 측정 방법
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제 5 항에 있어서,상기 S1의 세기/R1의 세기는 S1의 높이/R1의 높이 또는 S1의 면적/R1의 면적 중 어느 하나로 산출하는 것을 특징으로 하는 적분구를 이용한 형광 측정 방법
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