| 1 |
1
하기 화학식 I로 표시되는 화합물: [화학식 I]상기 화학식 I에서,R1, R2, 및 R3는 서로 동일하거나 상이하고, R1은 하이드록시기, 또는 메톡시메톡시기이고,R2, 및 R3는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 하이드록시기, 싸이올기, 아미노기, 치환 또는 비치환된 (C1-C10 알킬)아미노기, 치환 또는 비치환된 C1 -C10 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C1 -C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알케닐, 치환 또는 비치환된 C2 -C10 알키닐, 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴기로 이루어진 군에서 선택되고,상기 '치환 또는 비치환된'은 할로겐기, 니트릴기, 니트로기, 하이드록시기, 카보닐기, 에스테르기, 이미드기, 아미노기, 포스핀옥사이드기, 알콕시기, 아릴옥시기, 알킬티옥시기, 아릴티옥시기, 알킬술폭시기, 아릴술폭시기, 실릴기, 붕소기, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 아릴기, 아르알킬기, 아르알케닐기, 알킬아릴기, 알킬아민기
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 화학식 I은 하기 화학식 II로 표시되는 화합물:[화학식 II]상기 화학식 II에서, R2 및 R3는 상기 화학식 I에서 정의한 바와 동일하다
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 화학식 I은 하기 화학식 II-1 내지 화학식 II-5로 표시되는 화합물 중 어느 하나:[화학식 II-1][화학식 II-2][화학식 II-3][화학식 II-4][화학식 II-5]
|
| 4 |
4
제 1 항에 있어서,상기 화학식 I은 하기 화학식 III으로 표시되는 화합물:[화학식 III]상기 화학식 III에서, R2 및 R3는 상기 화학식 I에서 정의한 바와 동일하다
|
| 5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 화학식 I은 하기 화학식 III-1 내지 화학식 III-6으로 표시되는 화합물 중 어느 하나:[화학식 III-1][화학식 III-2][화학식 III-3][화학식 III-4][화학식 III-5][화학식 III-6]
|
| 6 |
6
하기 화학식 B로 표시되는 화합물로부터 하기 화학식 C로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 2단계; 하기 화학식 C으로 표시되는 화합물로부터 하기 화학식 D로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 3단계; 및하기 화학식 D로 표시되는 화합물로부터 하기 화학식 II로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 4단계;를 포함하는,화학식 II로 표시되는 화합물을 제조하는 방법:[화학식 B][화학식 C][화학식 D][화학식 II]상기 화학식 II에서,R2, 및 R3는 서로 동일하거나 상이하고, R2, 및 R3는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 하이드록시기, 싸이올기, 아미노기, 치환 또는 비치환된 (C1-C10 알킬)아미노기, 치환 또는 비치환된 C1 -C10 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C1 -C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알케닐, 치환 또는 비치환된 C2 -C10 알키닐, 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴기로 이루어진 군에서 선택되고,상기 '치환 또는 비치환된'은 할로겐기, 니트릴기, 니트로기, 하이드록시기, 카보닐기, 에스테르기, 이미드기, 아미노기, 포스핀옥사이드기, 알콕시기, 아릴옥시기, 알킬티옥시기, 아릴티옥시기, 알킬술폭시기, 아릴술폭시기, 실릴기, 붕소기, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 아릴기, 아르알킬기, 아르알케닐기, 알킬아릴기, 알킬아민기
|
| 7 |
7
제 6 항에 있어서,상기 반응 2단계 이전에, 하기 화학식 A로 표시되는 화합물로부터 하기 A-1로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 1-1단계; 및하기 A-1로 표시되는 화합물로부터 상기 화학식 B로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 1-2 단계를 더 포함하는,화학식 II로 표시되는 화합물을 제조하는 방법:[화학식 A] [화학식 A-1]
|
| 8 |
8
제 6 항에 있어서,상기 반응 3단계는 o-아세틸레이션(o-Acetylation), 이동(Migration), 보호기 제거(Deprotection)의 세 단계가 연속적으로 한 단계로 수행되는,화학식 II로 표시되는 화합물을 제조하는 방법
|
| 9 |
9
제 6 항에 있어서,상기 반응 3단계는 o-아세틸레이션(o-Acetylation), 이동(Migration), 보호기 제거(Deprotection)의 세 단계를 중간에 분리과정 없이 연속적으로 한 단계로 수행되는,화학식 II로 표시되는 화합물을 제조하는 방법
|
| 10 |
10
제 6 항에 있어서,상기 반응 4단계는 상기 화학식 D로 표시되는 화합물로부터 하기 화학식 D-1로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 4-1단계; 하기 화학식 D-1로 표시되는 화합물로부터 하기 화학식 III으로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 4-2단계; 및하기 화학식 III으로 표시되는 화합물로부터 하기 화학식 II로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 4-3단계;를 더 포함하는,화학식 II로 표시되는 화합물을 제조하는 방법:[화학식 D-1][화학식 III]상기 화학식 III에서, R2 및 R3는 상기 화학식 II에서 정의한 바와 동일하다
|
| 11 |
11
하기 화학식 B로 표시되는 화합물로부터 하기 화학식 C로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 2단계; 하기 화학식 C으로 표시되는 화합물로부터 하기 화학식 D로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 3단계; 하기 화학식 D로 표시되는 화합물로부터 하기 화학식 D-1로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 4-1단계; 및하기 화학식 D-1로 표시되는 화합물로부터 하기 화학식 III으로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 4-2단계;을 포함하는,화학식 III으로 표시되는 화합물을 제조하는 방법: [화학식 B][화학식 C][화학식 D][화학식 D-1][화학식 III]상기 화학식 III에서,R2, 및 R3는 서로 동일하거나 상이하고, R2, 및 R3는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 하이드록시기, 싸이올기, 아미노기, 치환 또는 비치환된 (C1-C10 알킬)아미노기, 치환 또는 비치환된 C1 -C10 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C1 -C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알케닐, 치환 또는 비치환된 C2 -C10 알키닐, 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴기로 이루어진 군에서 선택되고,상기 '치환 또는 비치환된'은 할로겐기, 니트릴기, 니트로기, 하이드록시기, 카보닐기, 에스테르기, 이미드기, 아미노기, 포스핀옥사이드기, 알콕시기, 아릴옥시기, 알킬티옥시기, 아릴티옥시기, 알킬술폭시기, 아릴술폭시기, 실릴기, 붕소기, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 아릴기, 아르알킬기, 아르알케닐기, 알킬아릴기, 알킬아민기
|
| 12 |
12
제 11 항에 있어서,상기 반응 2단계 이전에, 하기 화학식 A로 표시되는 화합물로부터 하기 화학식 A-1로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 1-1단계; 및하기 화학식 A-1로 표시되는 화합물로부터 상기 화학식 B로 표시되는 화합물을 합성하는 반응 1-2단계를 더 포함하는,화학식 III으로 표시되는 화합물을 제조하는 방법:[화학식 A] [화학식 A-1]
|
| 13 |
13
제 11 항에 있어서,상기 반응 3단계는 o-아세틸레이션(o-Acetylation), 이동(Migration), 보호기 제거(Deprotection)의 세 단계가 연속적으로 한 단계로 수행되는,화학식 III으로 표시되는 화합물을 제조하는 방법
|
| 14 |
14
제 11 항에 있어서,상기 반응 3단계는 o-아세틸레이션(o-Acetylation), 이동(Migration), 보호기 제거(Deprotection)의 세 단계가 중간에 분리과정 없이 연속적으로 한 단계로 수행되는,화학식 III으로 표시되는 화합물을 제조하는 방법
|
