| 1 |
1
하기 화학식 1로 표시되는 디니트로트리옥소헥사아자[3
|
| 2 |
2
하기 화학식 1로 표시되는 디니트로트리옥소헥사아자[3
|
| 3 |
3
하기 화학식 1로 표시되는 디니트로트리옥소헥사아자[3
|
| 4 |
4
제 3항에 있어서, 상기 화합물은 밀도가 2~2
|
| 5 |
5
제 3항에 있어서, 상기 화합물의 폭발속력은 7000~8000 m/s 인 것을 특징으로 하는,디니트로트리옥소헥사아자[3
|
| 6 |
6
하기 화학식 2의 화합물에 니트로기(-NO2)를 도입하는 것을 포함하는,하기 화학식 1로 표시되는 디니트로트리옥소헥사아자[3
|
| 7 |
7
하기 화학식 3의 화합물에 고리화 및 탈보호를 하여 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 제조하는 단계(1단계); 및하기 화학식 2로 표시되는 화합물에 니트로기(-NO2)를 도입하는 단계(2단계);를 포함하는,화학식 1로 표시되는 디니트로트리옥소헥사아자[3
|
| 8 |
8
제7항에 있어서, 화학식 3의 화합물은 요산에 염화나트륨 수용액과 암모니아 수용액을 반응시켜 제조된 것을 특징으로 하는,디니트로트리옥소헥사아자[3
|
| 9 |
9
제7항에 있어서, 상기 1단계는 화학식 3의 화합물에 카르보닐기를 도입하여 고리화 하는 단계(1a 단계); 및 1a 단계에서 제조된 화합물의 보호기를 촉매를 사용하여 제거하는 탈보호 하는 단계(1b 단계);를 포함하는 것을 특징으로 하는,디니트로트리옥소헥사아자[3
|
| 10 |
10
제6항 또는 제7항에 있어서,화학식 2로 표시되는 화합물에 니트로기(-NO2)를 도입하는 것은,유기산과 질산을 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는,디니트로트리옥소헥사아자[3
|
| 11 |
11
제10항에 있어서, 상기 유기산은 트리플루오로 아세트산인 것을 특징으로 하는, 디니트로트리옥소헥사아자[3
|
| 12 |
12
제10항에 있어서, 상기 질산은 발연질산인 것을 특징으로 하는, 디니트로트리옥소헥사아자[3
|
| 13 |
13
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 디니트로트리옥소헥사아자[3
|
