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처리 대상 물이 유입구로 공급되어 벤츄리 목을 경유하면서 공동현상으로 기포 영역을 형성하고 배출구로 배출되는 바디; 및상기 처리 대상 물을 처리 하도록 상기 기포 영역이 형성되는 상기 바디의 외주에 구비되어 상기 기포 영역을 이용하여 플라즈마를 발생시키는 전극을 포함하는 플라즈마 수처리 장치
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제1항에 있어서,상기 바디는상기 유입구로부터 관 면적이 축소되는 축소부, 및상기 벤츄리 목을 경유하여 상기 배출구까지 관 면적이 확장되는 확장부를 포함하는 플라즈마 수처리 장치
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제1항에 있어서,상기 바디는상기 유입구, 상기 벤츄리 목 및 상기 배출구를 부분적으로 형성하여 서로 결합되는 제1부분체와 제2부분체를 포함하며,상기 제1부분체와 상기 제2부분체는제1체결부재로 상호 결합되는플라즈마 수처리 장치
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제3항에 있어서,상기 제1부분체와 상기 제2부분체는상기 기포 영역에 대응하는 외주에 제1장착홈과 제2장착홈을 구비하며,상기 전극은상기 제1장착홈에 삽입되는 고전압전극과 상기 제2장착홈에 삽입되는 접지전극을 포함하는 플라즈마 수처리 장치
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제4항에 있어서,상기 고전압전극과 상기 접지전극은상기 제1부분체와 상기 제2부분체 중 적어도 하나를 관통하는 제2체결부재로 고정되는 플라즈마 수처리 장치
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제1항에 있어서,상기 바디는상기 유입구로부터 관 면적이 축소되는 축소부,상기 축소부에 끝에 끝에 형성되는 벤츄리 목, 및상기 벤츄리 목의 끝에서 확장되어 상기 기포 영역을 형성하고 확장된 너비로 상기 배출구까지 이어지는 원통부를 포함하는 플라즈마 수처리 장치
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제6항에 있어서,상기 전극은상기 원통부에서 상기 벤츄리 목에 인접한 상기 기포 영역에 구비되는 고전압전극, 및상기 기포 영역에 구비되어 상기 고전압전극에 마주하는 접지전극을 포함하는 플라즈마 수처리 장치
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제2항에 있어서,상기 전극은상기 확장부의 외주에 구비되는 고전압전극, 및상기 기포 영역에 구비되어 상기 확장부의 내측에 배치되어 상기 고전압전극의 내측으로 삽입되는 접지전극을 포함하는 플라즈마 수처리 장치
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제8항에 있어서,상기 접지전극은상기 축소부, 상기 벤츄리 목 및 상기 확장부로 삽입 배치되는 핀 타입으로 형성되고, 액츄에이터에 연결되며,상기 액츄에이터의 작동에 의하여 상기 고전압전극과의 대응 길이가 조절되는 플라즈마 수처리 장치
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10
제8항에 있어서,상기 접지전극은상기 확장부로 삽입 배치되는 원뿔대 타입으로 형성되고, 액츄에이터에 연결되며,상기 기포 영역에 구비되어 상기 액츄에이터의 작동에 의하여 상기 고전압전극과의 대응 길이가 조절되는 플라즈마 수처리 장치
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11
제1항에 있어서,상기 바디는 복수로 구비되며, 각 바디의 유입구들은 선단에서 서로 연결되고, 각 바디의 배출구들은 후단에서 서로 연결되는 플라즈마 수처리 장치
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